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비활성 가스가 공급되는 가스 공급부;
공급된 가스가 수납되는 공간의 일면을 막고 있는 넓은 유전체 평판;
상기 유전체 평판의 표면에 삽입된 적어도 하나 이상의 표면 전극으로 이루어지며, 상기 표면 전극을 감싸고 있는 유전체 평판의 표면에서 플라즈마를 발생시키는 표면 방전부; 및
상기 표면 전극에 저주파 고전압을 인가하는 전압공급부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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제1항에 있어서,
상기 가스 공급부는 헬륨(He), 네온(Ne), 아르곤(Ar), 크세논(Xe) 등의 비활성 가스나 공기를 공급하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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3
제1항에 있어서,
상기 유전체 평판의 표면에 삽입되는 표면 전극의 개수를 조절하여, 유전체 평판에서 표면 방전하며 발생되는 플라즈마의 크기를 조절하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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4
제1항에 있어서,
상기 플라즈마의 방전 개시 전압을 낮추기 위해 상기 표면 전극 사이에 유전체 평판을 관통하여 형성된 적어도 하나 이상의 구멍으로 이루어진 가스통로를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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5
제4항에 있어서,
상기 표면 전극과 유전체 표면간의 거리는 유전체 평판의 절연을 유지할 수 있는 최대한의 거리를 유지되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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6
제4항에 있어서,
상기 표면 전극은 유전체 평판에 삽입된 적어도 하나 이상의 전원전극과, 접지전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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7
제6항에 있어서,
상기 전원전극과 접지전극은 원통형의 구리 전극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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8
제6항에 있어서,
상기 전원전극과 접지전극은 가스통로를 중심으로 하여 좌우에 배치된 교차 배열구조를 이루는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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9
제6항에 있어서,
상기 전원전극과 접지전극은 상하로 배치된 이중 전극 배열구조를 이루는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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10
제9항에 있어서,
상기 전원전극은 유전체 평판의 표면 부분에 위치하고, 상기 접지전극은 유전체 평판의 내측 부분에 위치하여, 상기 가스통로를 중심으로 플라즈마 제트를 생성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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11
제1항에 있어서,
상기 유전체 평판의 표면에 표면 전극이 삽입되고, 유전체 평판의 측면 하부에 적어도 하나 이상의 구멍으로 형성된 가스통로가 형성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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12
제11항에 있어서,
상기 가스통로가 형성되는 유전체 평판의 측면 하부는 유전체 평판의 표면에서 발생된 플라즈마와 살균 처리하고자 하는 지점 사이에 일정한 거리를 유지하여 균일한 플라즈마를 가할 수 있도록 두껍게 형성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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13
제6항에 있어서,
상기 표면 전극들 사이의 거리를 조절하거나 가스통로의 두께를 조절하여 공기 중에서도 플라즈마를 발생시킬 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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14
제13항에 있어서,
상기 표면 전극의 중앙에서 인접한 표면 전극의 중앙까지의 거리는 2㎜ 내외로 구성되고, 상기 전원전극과 접지전극 사이의 거리는 1㎜ 내외로 구성되는 것을 특징으로 하는 박테리아 살균용 저온 평판 플라즈마 장치
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15
제13항에 있어서,
상기 표면 전극은 0
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