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투명 전극을 이용한 발광다이오드

  • 기술번호 : KST2015169591
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 질화갈륨계 발광다이오드에 산화막/금속/산화막으로 이루어진 투명전극을 적용함으로써, 종래에 비해 발광효율을 향상시킬 수 있는 발광다이오드에 관한 것이다.본 발명에 따른 발광다이오드는 발광 구조를 갖는 반도체층 위의 표면 반도체층이 N-페이스 또는 Ga-페이스를 갖는 n형 반도체 상에 형성된 투명전극을 포함하는 발광다이오드로서, 상기 투명전극은 상기 n형 반도체 상에, 산화물층, 금속층 및 산화물층이 순차적으로 형성된 다층구조로 이루어진 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 33/42 (2014.01) H01L 33/36 (2014.01)
CPC H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01)
출원번호/일자 1020110070253 (2011.07.15)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1280501-0000 (2013.06.25)
공개번호/일자 10-2013-0009274 (2013.01.23) 문서열기
공고번호/일자 (20130701) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.15)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종람 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 김범준 대한민국 경기도 고양시 일산동구
3 손준호 대한민국 경상북도 경산시
4 홍기현 대한민국 경상북도 포항시 남구
5 송양희 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0544341-30
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0551253-85
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.05.15 수리 (Accepted) 9-1-2012-0037296-13
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0515992-44
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0888699-72
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0996171-33
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-1089507-85
9 보정요구서
Request for Amendment
2013.01.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0004840-53
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.01.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0096279-34
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0096278-99
12 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2013.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0037800-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
14 등록결정서
Decision to grant
2013.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0424061-96
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
발광 구조를 갖는 반도체층 위의 표면 반도체층이 N-페이스 또는 Ga-페이스를 갖는 n형 반도체 상에 형성된 투명전극을 포함하는 발광다이오드로서,상기 투명전극은 상기 n형 반도체 상에, 산화물층, 금속층 및 산화물층이 순차적으로 형성된 다층구조로 이루어져 있고,상기 n형 반도체와 상기 투명 전극 사이에 Ti 또는 Cr로 이루어진 전류주입용 금속층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 발광다이오드
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 투명전극에서 상기 금속층의 상부에 형성된 산화물층의 표면이 패터닝되어 있는 것을 특징으로 하는 발광다이오드
5 5
제 1 항에 있어서,상기 투명전극의 상기 금속층 또는 상기 금속층의 상부에 형성된 산화물층에 n형 전극이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 발광다이오드
6 6
제 1 항에 있어서,상기 산화물층은 WOx, ZnOx, CaOx, TiOx, NiOx, CoOx, CeOx, SiOx, CuOx, ITO, AZO, MoOx 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광다이오드
7 7
제 1 항에 있어서,상기 산화물층의 두께는 1nm ~ 10㎛ 인 것을 특징으로 하는 발광다이오드
8 8
제 1 항에 있어서,상기 금속층은 Ag, Au 또는 Al 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광다이오드
9 9
제 1 항에 있어서,상기 금속층의 두께는 1nm ~ 100nm 인 것을 특징으로 하는 발광다이오드
10 10
삭제
11 11
제 1 항에 있어서,상기 전류주입 금속층의 두께는 0
12 12
제 4 항에 있어서,상기 패터닝은 포토리소그래피법 또는 나노 임프린트법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드
13 13
제 5 항에 있어서, 상기 n형 전극은 Cr, Au, Ti, Al, Ni, Pd, Pt 또는 Ag 중에서 선택된 1종 이상의 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광다이오드
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 포항공과대학교 산학협력단 산업원천기술개발사업(산업기술) 180 LM/W급 고효율 나노기반 LED 개발