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희토류 화합물, 물 및 과산화수소를 포함하는 표면처리 용액을 준비하는 단계;금속 기판을 상기 표면처리 용액에 침지하여 반응시키는 단계;상기 반응된 금속 기판을 건조시키는 단계; 광촉매를 코팅하기 위한 코팅 용액을 준비하는 단계;상기 코팅 용액에 희토류 표면처리된 금속 기판을 침지하여 코팅하는 단계;상기 코팅된 금속 기판을 건조하는 단계; 및상기 코팅된 금속 기판을 열처리하는 단계를 포함하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 희토류 화합물은 질산화 세륨(Cerium(Ⅲ) nitrate), 염화 세륨(Cerium(Ⅲ) chloride), 황화 세륨(Cerium(Ⅲ) sulfate), 아세트산 세륨(Cerium(Ⅲ) acetate), 수산화 세륨(Cerium(Ⅲ) hydroxide), 질산화 란타늄(Lanthanum(Ⅲ) nitrate), 염화 란타늄(Lanthanum(Ⅲ)chloride), 황화 란타늄(Lanthanum(Ⅲ) sulfate), 아세트산 란타늄(Lanthanum(Ⅲ) acetate), 수산화 란타늄(Lanthanum(Ⅳ) hydroxide), 질산화 네오디뮴(Neodymium(Ⅲ) nitrate), 염화 네오디뮴(Neodymium(Ⅲ)chloride), 황화 네오디뮴(Neodymium(Ⅲ) sulfate), 아세트산 네오디뮴(Neodymium(Ⅲ) acetate), 수산화 네오디뮴(Neodymium(Ⅲ) hydroxide), 질산화 유로퓸(Europium(Ⅲ) nitrate), 염화 유로퓸(Europium(Ⅲ) chloride), 황화 유로퓸(Europium(Ⅲ) sulfate), 아세트산 유로퓸(Europium(Ⅲ) acetate), 수산화 유로퓸(Europium(Ⅲ) hydroxide)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 용액은 티타늄 알콕사이드(titanium alkoxide) 전구체, 유기 용매, 물, 촉매, 광촉매 나노 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제3항에 있어서,상기 티타늄 알콕사이드 전구체는 티타늄 이소프로폭사이드(titanium isopropoxide), 티타늄 프로폭사이드(titanium propoxide), 티타늄 에톡사이드(titanium ethoxide), 티타늄 부톡사이드(titanium butoxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제3항에 있어서,상기 유기 용매는 메탄올(Methanol), 에탄올(Ethanol), 이소프로필 알코올(Isopropyl alcohol), 펜탄올(Pentanol)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제3항에 있어서,상기 촉매는 질산(nitric acid), 아세트산(acetic acid), 염산(hydrochloric acid), 황산(sulfuric acid) 또는 암모니아(ammonia)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제3항에 있어서,상기 광촉매 나노 분말은 TiO2, SrTiO3, Nb2O5, WO3, Fe2O3, ZnO2, SnO2, GaP, Si, SiC, CdS로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 표면처리 용액은 물 100 중량부에 대하여 희토류 화합물 0
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제1항에 있어서,상기 표면처리 용액은, 시트르산(Citric acid), 아세트산(Acetic acid), 디포타슘 포스페이트(dipotassium phosphate, K2HPO4), 붕산염(Borate) 중 하나 이상을 포함하는 버퍼 용액이 포함되는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제3항에 있어서,상기 코팅 용액은 상기 티타늄 알콕사이드 전구체와 유기 용매의 제1 혼합용액과, 물, 촉매 및 유기 용매의 제2 혼합용액과, 광촉매 나노 분말과 유기 용매의 제3 혼합용액의 혼합에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제10항에 있어서,상기 제1 혼합용액과 제2 혼합용액의 혼합 속도는 1ml/min 이하인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제10항에 있어서,상기 티타늄 알콕사이드 전구체는 상기 유기 용매 100 중량부에 대하여 5~70중량부인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제10항에 있어서,상기 광촉매 나노 분말은 상기 유기 용매 100 중량부에 대하여 20 중량부 이하로 포함되는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 반응된 기판 및 코팅된 기판은 20~100℃에서 건조하는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는 300~700℃의 온도범위에서 실시하는 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제14항에 있어서,상기 건조시의 상대 습도는 20% 이상인 것을 특징으로 하는 금속 기판의 코팅방법
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제1항 내지 제16항 중 어느 하나의 항에 의해 제조되는 금속 기판
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