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광추출 효율을 높인 질화갈륨계 발광다이오드 소자, 광추출 효율을 높인 유기 발광다이오드 소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015169786
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질화갈륨계 발광다이오드 소자 또는 유기 발광다이오드 소자의 기판에 자가 정렬 나노 구조체를 이용하여 나노 패턴으로 이루어지는 산화막을 형성토록 함으로써 내부에서 전반사의 가능성을 줄이고, 그에 따른 광추출 효율을 높일 수 있도록 한 광추출 효율을 높인 질화갈륨계 발광다이오드 소자, 광추출 효율을 높인 유기 발광다이오드 소자의 제조방법에 관한 것으로서, 이에 따른 발광다이오드 소자 제조방법의 특징은, (a) 기판상에 나노 구조체를 도포하는 단계; (b) 나노 구조체가 도포된 기판상에 기판 굴절률보다 작은 굴절률 값을 갖는 산화막을 증착하는 단계; (c) 산화막 증착 후 도포된 나노 구조체를 제거하여 기판에 나노 패터닝된 산화막을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어진다.이에 따르면, 기판 표면에 자가 정렬 나노 구조체를 도포하고, 나노 구조체들 사이를 통해 산화막을 증착한 후 나노 구조체를 제거하는 방법으로 기판 표면에 나노 크기의 산화막이 패턴으로 형성되어 광결정을 이루도록 함으로써 광추출 효율을 향상시키는 효과가 있다.
Int. CL H01L 33/22 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020120128167 (2012.11.13)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1383097-0000 (2014.04.02)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140410) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.11.13)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김범준 대한민국 경기 고양시 일산동구
2 이종람 대한민국 경상북도 포항시 남구
3 손준호 대한민국 경북 경산시 경안로**길 **

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0932295-18
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0058076-46
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0798888-42
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0031253-36
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-0031252-91
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
9 등록결정서
Decision to grant
2014.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0220735-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 기판상에 나노 구조체를 도포하는 단계;(b) 나노 구조체가 도포된 기판상에 기판 굴절률보다 작은 굴절률 값을 갖는 산화막을 증착하는 단계;(c) 산화막 증착 후 도포된 나노 구조체를 제거하여 기판에 나노 패터닝된 산화막을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지며, 상기 (c) 단계에서 나노 구조체를 제거하는 방법은 산화막이 증착된 기판을 톨루엔(Toluene) 또는 BOE 수용액에 침전시키는 습식 식각으로 이루어짐을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계에서 기판상에 증착되는 산화막 증착은 굴절률 값이 각기 다른 산화막 물질이 복수 층을 이루며 증착되도록 각 산화막 물질의 층 배열에 따라 해당 층의 산화막 물질에 대응하는 증착 공정을 순차적인 실시로 이루어지고,상기 복수 층을 이루는 각 산화막 물질은 상기 기판에서부터 굴절률 값이 점차 작아지는 순서의 배열로 층을 이루는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 기판은 p형 질화갈륨계 물질 또는 n형 질화갈륨계 물질인 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 기판은 유리, PET, PES, poly-imid, SU-8, PDMS, poly-carbonate 중 어느 하나의 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체는 Polystyrene, Polyethylene, SiO2, Glass 계열 물질 중 어느 하나의 물질로 이루어진 구 형상의 것임을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 나노 구조체는 Polystyrene 또는 Polyethylene 물질로 된 구 형상의 것이고, 상기 (a) 단계 이후에 플라즈마 처리로 나노 구조체의 크기를 조절하는 단계를 더 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체는 지름이 100㎚~3㎛ 크기의 지름을 갖는 구 형상의 것임을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 나노 구조체는 서로 다른 크기의 지름을 갖는 둘 이상의 것이 혼합된 것으로 이루어짐을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는 기판상에 산화막으로 표면처리 한 후 시행되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
10 10
제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계의 산화막 증착은 전자선 증착법, 스퍼터 증착법, 열 증착법 중 어느 하나의 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
11 11
제 2 항에 있어서,상기 산화막 중 어느 한 층의 증착 두께는 10Å~10,000Å인 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
12 12
삭제
13 13
제 3 항에 있어서,상기 기판은 수직형 층 구조로 표면에 산화막이 형성되는 층이 질화갈륨계인 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
14 14
제 13 항에 있어서,상기 나노 패터닝된 산화막을 형성한 후 KOH 또는 NaOH를 포함한 수용액에 침전시키는 습식 식각으로 나노 패턴을 피라미드 형태를 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
15 15
제 14 항에 있어서,상기 습식 식각의 수용액 농도는 1M~8M인 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
16 16
제 14 항에 있어서,상기 습식 식각의 시간은 5~60분인 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
17 17
제 3 항에 있어서,상기 기판은 수평형 구조를 갖는 질화갈륨계 기판임을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
18 18
제 1 항 내지 제 11 항, 제 13 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판에 증착 형성되는 산화막은 ITO, IGO, IZO, ZnOx, ZrOx, WOx MgOx, AlOx, SiOx, GaOx, VOx, TiOx 중 어느 하나의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광다이오드 소자 제조방법
19 19
삭제
20 20
삭제
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1 지식경제부 포항공과대학교 산합혁력단 산업원천기술개발사업(산업기술) 180 LM/W급 고효율 나노기반 LED 개발