요약 | 본 발명은 질화물 반도체의 선택적인 영역에 일정한 패턴으로 성장하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 및 이에 의해 제조된 산화아연 나노막대 어레이에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산화아연 나노막대 어레이 제조방법은 제1면 및 제2면을 갖는 성장기판을 준비하고; 상기 성장기판의 제1면 상에 질화물 반도체층을 성장시키고; 상기 질화물 반도체층 상에 지지기판을 배치하고; 상기 성장기판의 제2면 상에 레이저 조절 패턴을 형성하고; 상기 레이저 차단 패턴을 갖는 성장기판의 제2면으로부터 레이저를 조사하여 상기 성장기판을 상기 질화물 반도체층으로부터 제거하는 것을 포함할 수 있다. |
---|---|
Int. CL | B82B 3/00 (2017.01.01) C01G 9/02 (2006.01.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020130053164 (2013.05.10) |
출원인 | 포항공과대학교 산학협력단, 서울바이오시스 주식회사 |
등록번호/일자 | 10-2082450-0000 (2020.02.21) |
공개번호/일자 | 10-2014-0133723 (2014.11.20) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20200228) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2018.05.08) |
심사청구항수 | 22 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 포항공과대학교 산학협력단 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 서울바이오시스 주식회사 | 대한민국 | 경기도 안산시 단원구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이종람 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 김성주 | 대한민국 | 부산광역시 사상구 |
3 | 김범준 | 대한민국 | 경기 고양시 일산동구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인에이아이피 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 포항공과대학교 산학협력단 | 경상북도 포항시 남구 | |
2 | 서울바이오시스 주식회사 | 경기도 안산시 단원구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.05.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0415070-49 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0025573-58 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.09.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5126387-92 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5024386-11 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.07.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5089977-41 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5110518-03 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2016.12.26 | 수리 (Accepted) | 4-1-2016-5192898-06 |
8 | [출원인변경]권리관계변경신고서 [Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status |
2018.05.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0440447-17 |
9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2018.05.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0447561-22 |
10 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2019.07.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0494205-66 |
11 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2019.09.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2019-0907035-20 |
12 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2019.09.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2019-0907106-74 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5243581-27 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5245997-53 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.11.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5247115-68 |
16 | 등록결정서 Decision to grant |
2019.11.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0859398-64 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 제1면 및 제2면을 갖는 성장기판을 준비하고;상기 성장기판의 제1면 상에 질화물 반도체층을 성장시키고;상기 질화물 반도체층 상에 지지기판을 배치하고;상기 성장기판의 제2면 상에 마스크 패턴을 형성하고;상기 마스크 패턴을 갖는 성장기판의 제2면으로부터 레이저를 조사하여 상기 성장기판을 상기 질화물 반도체층으로부터 제거하는 것을 포함하되,상기 레이저 조사에 의해 상기 질화물 반도체층 상에 전사 패턴이 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
2 |
2 청구항 1에 있어서,상기 성장기판이 제거된 질화물 반도체 상에 수열합성법을 이용하여 산화아연 나노막대 어레이를 성장시키는 것을 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
3 |
3 청구항 2에 있어서,상기 수열합성법은 아연염과 헥사메틸렌테트라아민(hexamethylenetetramine)의 혼합용액을 사용하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
4 |
4 청구항 3에 있어서,상기 혼합용액의 몰 농도는 0 |
5 |
5 청구항 1에 있어서,상기 마스크 패턴은 리프트-오프 기술을 이용하여 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
6 |
6 청구항 5에 있어서,상기 마스크 패턴은 산화물, 질화물, 유기물, 및 폴리머 중 어느 하나로 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
7 |
7 청구항 5에 있어서,상기 리프트 오프 공정은 포토레지스트 패턴 상에 마스크층을 형성하고, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 것을 포함하되,상기 마스크층은 열증착법, 전자선 증착법, 또는 스퍼터 증착법을 이용하여 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
8 |
8 청구항 6에 있어서,상기 산화물은 Al2O3, MgO, ZnO, NiO, ITO, 또는 SiO2인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
9 |
9 청구항 1에 있어서,상기 질화물 반도체층은 n형 불순물 또는 p형 불순물이 도핑된 반도체층이거나 언도프트 반도체층인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
10 |
10 청구항 1에 있어서,상기 지지기판은 Si, Cu, Ni, PDMS(polydimethylsiloxane), PET(polyethyleneterephthalate), 또는 PUA(polyurethaneacrylate)를 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
11 |
11 청구항 1에 있어서,상기 성장 기판은 사파이어 기판이고,상기 사파이어 기판의 두께는 100 내지 1000㎛인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
12 |
12 청구항 1에 있어서,상기 마스크 패턴은 서로 이격된 마스킹 요소들을 포함하고,상기 마스킹 요소들은 의 폭은 2 내지 100㎛ 이고, 상기 마스킹 요소들 사이의 간격은 2 내지 100㎛인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
13 |
13 청구항 12에 있어서,상기 마스킹 요소들의 두께는 100nm 내지 1000nm인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
14 |
14 청구항 1에 있어서, 상기 레이저는 248nm의 파장을 가지고, 400mJ 내지 700mJ의 에너지를 가지는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
15 |
15 청구항 1에 있어서,상기 성장기판은 사파이어기판, 질화물계 기판, 또는 SiC 기판인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
16 |
16 청구항 1에 있어서,상기 성장기판이 제거된 질화물 반도체층 표면을 UVO(UV/Ozone), 산소 플라즈마, 질소 플라즈마 또는 아르곤 플라즈마를 이용하여 표면 처리하는 공정을 더 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
17 |
17 청구항 16에 있어서,상기 UVO(UV/Ozone)를 이용한 표면 처리 시간은 1분 내지 60분인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 |
18 |
18 청구항 1 내지 청구항 17의 어느 한 항의 나노막대 어레이 제조 방법으로 제조된 나노막대 어레이 |
19 |
19 지지 기판;상기 지지 기판 상에 배치된 질화물 반도체층; 및상기 질화물 반도체층 상에 단위 어레이들이 배열된 나노 막대 어레이를 포함하고,상기 나노 막대 어레이는 청구항 1 내지 청구항 17의 어느 한 항의 나노 막대 어레이 제조 방법으로 제조된 나노 막대 어레이이며,상기 단위 어레이 내의 나노 막대들은 링(ring) 형상 또는 플레이트 형상으로 배열된 반도체 소자 |
20 |
20 청구항 19에 있어서,상기 나노 막대들은 산화 아연을 포함하는 반도체 소자 |
21 |
21 청구항 19에 있어서,상기 단위 어레이 내의 나노 막대들은 불규칙하게 링(ring)형상 또는 플레이트 형상으로 배열된 반도체 소자 |
22 |
22 청구항 19에 있어서,상기 기판 상에 위치하는 질화물 반도체층을 더 포함하고,상기 나노 막대 어레이는 상기 질화물 반도체층 상에 위치하는 반도체 소자 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | WO2014182129 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | WO2014182129 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-2082450-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20130510 출원 번호 : 1020130053164 공고 연월일 : 20200228 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20191127 청구범위의 항수 : 22 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 산화아연 나노막대 어레이의 제조방법, 그것에 의해 제조된 산화아연 나노 막대 어레이 및 그것을 이용한 반도체 소자 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구... |
1 |
(권리자) 서울바이오시스 주식회사 경기도 안산시 단원구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 541,800 원 | 2020년 02월 24일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.05.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0415070-49 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0025573-58 |
3 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.09.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5126387-92 |
4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5024386-11 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.07.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5089977-41 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5110518-03 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2016.12.26 | 수리 (Accepted) | 4-1-2016-5192898-06 |
8 | [출원인변경]권리관계변경신고서 | 2018.05.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0440447-17 |
9 | [심사청구]심사청구(우선심사신청)서 | 2018.05.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2018-0447561-22 |
10 | 의견제출통지서 | 2019.07.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0494205-66 |
11 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2019.09.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2019-0907035-20 |
12 | [명세서등 보정]보정서 | 2019.09.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2019-0907106-74 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.20 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5243581-27 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5245997-53 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.11.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5247115-68 |
16 | 등록결정서 | 2019.11.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2019-0859398-64 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345212249 |
---|---|
세부과제번호 | R31-2012-000-10059-0 |
연구과제명 | 첨단 기능성 신물질 시스템 기초 연구 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 200812~201308 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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