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산화아연 나노막대 어레이의 제조방법, 그것에 의해 제조된 산화아연 나노 막대 어레이 및 그것을 이용한 반도체 소자

  • 기술번호 : KST2015169813
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질화물 반도체의 선택적인 영역에 일정한 패턴으로 성장하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법 및 이에 의해 제조된 산화아연 나노막대 어레이에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산화아연 나노막대 어레이 제조방법은 제1면 및 제2면을 갖는 성장기판을 준비하고; 상기 성장기판의 제1면 상에 질화물 반도체층을 성장시키고; 상기 질화물 반도체층 상에 지지기판을 배치하고; 상기 성장기판의 제2면 상에 레이저 조절 패턴을 형성하고; 상기 레이저 차단 패턴을 갖는 성장기판의 제2면으로부터 레이저를 조사하여 상기 성장기판을 상기 질화물 반도체층으로부터 제거하는 것을 포함할 수 있다.
Int. CL B82B 3/00 (2017.01.01) C01G 9/02 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020130053164 (2013.05.10)
출원인 포항공과대학교 산학협력단, 서울바이오시스 주식회사
등록번호/일자 10-2082450-0000 (2020.02.21)
공개번호/일자 10-2014-0133723 (2014.11.20) 문서열기
공고번호/일자 (20200228) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.08)
심사청구항수 22

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 서울바이오시스 주식회사 대한민국 경기도 안산시 단원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종람 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 김성주 대한민국 부산광역시 사상구
3 김범준 대한민국 경기 고양시 일산동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인에이아이피 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구
2 서울바이오시스 주식회사 경기도 안산시 단원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2013-0415070-49
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.09.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-5126387-92
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5089977-41
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.17 수리 (Accepted) 4-1-2014-5110518-03
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.12.26 수리 (Accepted) 4-1-2016-5192898-06
8 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2018.05.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0440447-17
9 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2018-0447561-22
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.07.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0494205-66
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2019-0907035-20
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.09.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0907106-74
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
16 등록결정서
Decision to grant
2019.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0859398-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1면 및 제2면을 갖는 성장기판을 준비하고;상기 성장기판의 제1면 상에 질화물 반도체층을 성장시키고;상기 질화물 반도체층 상에 지지기판을 배치하고;상기 성장기판의 제2면 상에 마스크 패턴을 형성하고;상기 마스크 패턴을 갖는 성장기판의 제2면으로부터 레이저를 조사하여 상기 성장기판을 상기 질화물 반도체층으로부터 제거하는 것을 포함하되,상기 레이저 조사에 의해 상기 질화물 반도체층 상에 전사 패턴이 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 성장기판이 제거된 질화물 반도체 상에 수열합성법을 이용하여 산화아연 나노막대 어레이를 성장시키는 것을 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
3 3
청구항 2에 있어서,상기 수열합성법은 아연염과 헥사메틸렌테트라아민(hexamethylenetetramine)의 혼합용액을 사용하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
4 4
청구항 3에 있어서,상기 혼합용액의 몰 농도는 0
5 5
청구항 1에 있어서,상기 마스크 패턴은 리프트-오프 기술을 이용하여 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
6 6
청구항 5에 있어서,상기 마스크 패턴은 산화물, 질화물, 유기물, 및 폴리머 중 어느 하나로 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
7 7
청구항 5에 있어서,상기 리프트 오프 공정은 포토레지스트 패턴 상에 마스크층을 형성하고, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 것을 포함하되,상기 마스크층은 열증착법, 전자선 증착법, 또는 스퍼터 증착법을 이용하여 형성되는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
8 8
청구항 6에 있어서,상기 산화물은 Al2O3, MgO, ZnO, NiO, ITO, 또는 SiO2인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
9 9
청구항 1에 있어서,상기 질화물 반도체층은 n형 불순물 또는 p형 불순물이 도핑된 반도체층이거나 언도프트 반도체층인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
10 10
청구항 1에 있어서,상기 지지기판은 Si, Cu, Ni, PDMS(polydimethylsiloxane), PET(polyethyleneterephthalate), 또는 PUA(polyurethaneacrylate)를 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
11 11
청구항 1에 있어서,상기 성장 기판은 사파이어 기판이고,상기 사파이어 기판의 두께는 100 내지 1000㎛인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
12 12
청구항 1에 있어서,상기 마스크 패턴은 서로 이격된 마스킹 요소들을 포함하고,상기 마스킹 요소들은 의 폭은 2 내지 100㎛ 이고, 상기 마스킹 요소들 사이의 간격은 2 내지 100㎛인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
13 13
청구항 12에 있어서,상기 마스킹 요소들의 두께는 100nm 내지 1000nm인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
14 14
청구항 1에 있어서, 상기 레이저는 248nm의 파장을 가지고, 400mJ 내지 700mJ의 에너지를 가지는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
15 15
청구항 1에 있어서,상기 성장기판은 사파이어기판, 질화물계 기판, 또는 SiC 기판인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
16 16
청구항 1에 있어서,상기 성장기판이 제거된 질화물 반도체층 표면을 UVO(UV/Ozone), 산소 플라즈마, 질소 플라즈마 또는 아르곤 플라즈마를 이용하여 표면 처리하는 공정을 더 포함하는 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
17 17
청구항 16에 있어서,상기 UVO(UV/Ozone)를 이용한 표면 처리 시간은 1분 내지 60분인 산화아연 나노막대 어레이 제조방법
18 18
청구항 1 내지 청구항 17의 어느 한 항의 나노막대 어레이 제조 방법으로 제조된 나노막대 어레이
19 19
지지 기판;상기 지지 기판 상에 배치된 질화물 반도체층; 및상기 질화물 반도체층 상에 단위 어레이들이 배열된 나노 막대 어레이를 포함하고,상기 나노 막대 어레이는 청구항 1 내지 청구항 17의 어느 한 항의 나노 막대 어레이 제조 방법으로 제조된 나노 막대 어레이이며,상기 단위 어레이 내의 나노 막대들은 링(ring) 형상 또는 플레이트 형상으로 배열된 반도체 소자
20 20
청구항 19에 있어서,상기 나노 막대들은 산화 아연을 포함하는 반도체 소자
21 21
청구항 19에 있어서,상기 단위 어레이 내의 나노 막대들은 불규칙하게 링(ring)형상 또는 플레이트 형상으로 배열된 반도체 소자
22 22
청구항 19에 있어서,상기 기판 상에 위치하는 질화물 반도체층을 더 포함하고,상기 나노 막대 어레이는 상기 질화물 반도체층 상에 위치하는 반도체 소자
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1 WO2014182129 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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