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다층의 그래핀층을 포함하는 그래핀 구조체의 제조 방법으로,기판 상에 제1 그래핀층을 형성하고,상기 제1 그래핀층을 금속 염화물로 도핑하고,상기 도핑된 제1 그래핀층 상에 상기 그래핀 구조체의 마지막층인 제2 그래핀층을 적층하는 것을 포함하되,상기 제2 그래핀층은 금속 염화물 도핑없이 상기 제1 그래핀층 상에 잔류하는 그래핀 구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제2 그래핀층 이외의 다른 다층의 그래핀층은 모두 금속 염화물로 도핑된 그래핀 구조체의 제조방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 금속 염화물은 AuCl3, IrCl3, MoCl3, OsCl3, PdCl2 및 RhCl3로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 금속 염화물을 포함하는 그래핀 구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 기판은 금속산화물계 기판, 실리카계 기판, 또는 플라스틱 기판을 포함하는 그래핀 구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 기판은 SiO2, ZrO2, TiO2, Al2O3, 글래스, 석영, HfO2, MgO 및 BeO 중 어느 하나인 그래핀 구조체의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제1 그래핀층을 형성하는 것은, 상기 기판 상에 제1 그래핀층을 전사하는 것을 포함하는 그래핀 구조체의 제조방법
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7
제1 그래핀층;상기 제1 그래핀층 상에 적층된 제2 그래핀층을 포함하되, 상기 제1 그래핀층은 금속 염화물로 도핑되고,상기 제2 그래핀층은 금속 염화물 도핑없이 상기 제1 그래핀층 상에 잔류하는 그래핀 구조체
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청구항 7에 있어서,금속 염화물로 도핑된 복수의 그래핀층들을 포함하되, 상기 제2 그래핀층은 상기 복수의 그래핀층들 상에 위치하는 그래핀 구조체
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청구항 7 또는 청구항 8에 있어서, 상기 금속 염화물은 AuCl3, IrCl3, MoCl3, OsCl3, PdCl2 및 RhCl3 로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 금속 염화물을 포함하는 그래핀 구조체
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청구항 7 또는 청구항 8에 따른 그래핀 구조체를 포함하는 투명전극
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청구항 10에 따른 투명전극을 포함하는 발광다이오드
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