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비대칭 라인 나노 패턴 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015170203
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비대칭 라인 나노 패턴 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 블록 공중합체 블렌드를 이용하여 비대칭 라멜라 (lamellar) 마이크로도메인 (microdomain)을 형성시키고, 이를 이용하여 차세대 리소그라피로의 응용이 가능한 비대칭 라인 나노 패턴 및 그 제조 방법에 관한 것이다.이러한 나노 패턴을 형성하기 위해서, 본 발명은 하나의 블록 공중합체의 적어도 하나의 블록이 다른 블록 공중합체의 적어도 하나의 블록과 2차 결합을 이루는 2 이상의 블록 공중합체 혼합물을 이용하여 비대칭성 라멜라 패턴을 형성하는 방법을 제시한다.
Int. CL C08L 53/00 (2006.01) C08J 3/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC C08L 53/005(2013.01) C08L 53/005(2013.01) C08L 53/005(2013.01) C08L 53/005(2013.01) C08L 53/005(2013.01)
출원번호/일자 1020120118056 (2012.10.23)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1477350-0000 (2014.12.22)
공개번호/일자 10-2014-0052242 (2014.05.07) 문서열기
공고번호/일자 (20141230) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.10.23)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진곤 대한민국 경상북도 경주시
2 한성현 대한민국 경북 경산시 성암로 *,
3 김성남 대한민국 경북 포항시 남구
4 배두식 대한민국 경북 포항시 남구
5 곽종헌 대한민국 경기 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상훈 대한민국 서울특별시 영등포구 선유로 *길 **, **층 ****호 (문래동*가, 문래 sk v*센터)(새생명특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0864315-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0045155-51
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0053214-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0278568-83
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-0388074-32
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0388154-97
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0564964-83
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0795863-85
12 등록결정서
Decision to grant
2014.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0724914-19
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
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번호 청구항
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기판에 하나의 블록 공중합체의 적어도 하나의 블록이 다른 블록 공중합체의 적어도 하나의 블록과 2차 결합을 이루는 2 이상의 블록 공중합체 혼합물을 이용하여 비대칭성 라멜라 패턴을 형성하는 단계; 및상기 패턴을 어닐링하는 단계를 포함하고,여기서 상기 어닐링은 솔벤트 어닐링과 온도 구배 어닐링의 조합인 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 비대칭성 라멜라 패턴은 상기 기판에 수직으로 배향된 나노 패턴인 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 비대칭성 라멜라 패턴은 2개의 블록으로 이루어진 2 개의 블록 공중합체 혼합물 용액을 코팅 후 건조하여 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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제13항 또는 제16항에 있어서, 상기 2차 결합을 이루진 않는 블록 중 적어도 하나는 제거 가능하며, 2차 결합을 이루진 않는 다른 블록들과 상분리되는 블록인 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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제17항에 있어서, 상기 제거 가능한 블록은 폴리(메틸메타아크릴레이트)블록, 폴리(락틱엑시드)블록, 폴리이소프렌블록, 또는 폴리부타디엔블록인 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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제13항에 있어서, 상기 비대칭성 라멜라 패턴은 40 nm 이상 수직으로 배향된 것을 특징으로 하는 비대칭성 라인 패턴 형성 방법
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