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극소수성 표면 가공방법 및 이 방법으로 제조된 극소수성표면 구조물을 갖는 고체 기재

  • 기술번호 : KST2015170215
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 간단한 공정으로 대량의 소수성 표면의 가공이 가능하도록 함으로서, 생산원가의 절감이 가능하도록 하는 비젖음성 표면 가공방법 및 이를 이용한 방법으로 표면 처리된 고체 기재에 관한 것이다. 본 발명은, 금속 기재를 양극 산화 가공 처리하여 그 표면에 다수개의 나노 스케일의 직경을 갖는 미세 홀(hole)을 형성하는 단계와, 표면에 다수개의 미세 홀이 형성된 금속기재를 비젖음성 고분자 물질에 담가 응고시킴으로 음극 복제체를 형성하는 단계와, 상기 음극 복제체로부터 상기 금속 기재와 양극 산화물을 제거하여 극소수성 표면 구조물을 형성하는 단계를 제공한다. 또한, 본 발명은, 베이스와, 상기 베이스 상에 다수개의 나노 스케일의 직경을 갖는 기둥이 마련되며, 인접한 복수의 기둥들이 다수의 군락을 이루어 마이크로 스케일의 굴곡을 갖도록 돌출되는 극소수성 표면 구조물을 갖는 고체기재를 제공한다. 비젖음성, 소수성, 양극 산화, 반데르 발스의 힘
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) C25D 11/02 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020070067773 (2007.07.05)
출원인 포항공과대학교 산학협력단, 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자 10-0949374-0000 (2010.03.17)
공개번호/일자 10-2008-0004409 (2008.01.09) 문서열기
공고번호/일자 (20100325) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020060062963   |   2006.07.05
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.07.05)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동현 대한민국 경북 포항시 남구
2 황운봉 대한민국 경북 포항시 남구
3 박현철 대한민국 경북 포항시 남구
4 이건홍 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.07.05 수리 (Accepted) 1-1-2007-0492729-60
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2007-5195152-79
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0117684-79
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2009.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0296520-52
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2009.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2009-0367684-74
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.07.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0441433-46
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.07.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0441435-37
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2009.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0478056-38
9 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2010.01.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2010-0002876-37
10 등록결정서
Decision to grant		 2010.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0083083-21
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
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번호 청구항
1 1
알루미늄(Al) 기재를 양극 산화 가공 처리하여 그 표면에 다수개의 나노 스케일의 직경을 갖는 홀(hole)을 형성하는 단계; 표면에 다수개의 상기 홀이 형성된 상기 알루미늄 기재를 비젖음성 고분자 물질에 담가 응고시킴으로 음극 복제체를 형성하는 단계; 및 상기 음극 복제체로부터 상기 알루미늄 기재와 양극 산화물을 제거하여 나노 스케일과 마이크로 스케일의 구조를 함께 갖는 듀얼 스케일의 극소수성 표면 구조물을 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 음극 복제체는, 상기 알루미늄 기재에 형성된 다수개의 상기 홀에 상기 비젖음성 고분자 물질이 주입되어 음극 복제된 다수개의 나노 스케일의 직경을 갖는 기둥을 갖도록 형성되며, 상기 음극 복제체의 기둥들은, 인접된 복수의 기둥들이 부분적으로 들러붙음으로 다수의 마이크로 스케일의 군락을 형성하는 극소수성 표면 가공방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 홀은 종횡비가 100 내지 1900의 범위에 속하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 극소수성 표면 가공방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 홀은 종횡비가 500 내지 1700의 범위에 속하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 극소수성 표면 가공방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 비젖음성 고분자 물질은 PTFE(Polytetrafluoroethylene), FEP(Fluorinated ethylene propylene copolymer) 및 PFA(Perfluoroalkoxy) 으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 극소수성 표면 가공방법
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8 8
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9 9
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10 10
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11 11
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12 12
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13 13
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20090317590 US 미국 FAMILY
2 WO2008004827 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2009317590 US 미국 DOCDBFAMILY
2 WO2008004827 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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