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연마 테이블(301)위에 연마패드(302)가 부착되고; 웨이퍼(404)를 부착한 연마헤드(303)에 소정의 압력을 가한 상태에서, 화학적 반응성을 가지는 연마액(304)을 연마액 탱크(307)로부터 펌프(306)를 통하여 연마액 공급라인(305)을 거쳐 연마패드(302 또는 711) 위로 공급하며; 연마헤드(303) 및 연마테이블(301)을 같은 방향으로 소정의 속도로 회전시키면서 서로 상대운동시켜서 웨이퍼를 연마하는 화학기계적 연마장치에 있어서, 상기 연마헤드(303)는 웨이퍼(710)가 부착될 수 있도록 도넛형상으로 된 리테이너링(709); 상기 리테이너링(709)의 내부에 형성되어 진공라인(706)과 연통되는 진공관(714); 상기 리테이너링(709)을 지지하는 벨로우즈(712); 상기 벨로우즈(712) 위에 구비되어 적외선을 투광시킬 수 있는 투광창(707); 상기 투광창(707)의 중앙에 형성되어 진공 및 공압을 각각 공급하는 진공라인(706)과 공압라인(705); 상기 웨이퍼(710), 상기 리테이너링(709), 상기 벨로우즈(712) 및 상기 투광창(707)에 의해 밀폐적으로 구획 형성된 챔버(708); 그리고 상기 연마헤드(303)의 회전을 자유롭게 하는 베어링(713)을 포함하고 있으며; 여기에서, 상기 투과창(707)의 상부에는, 웨이퍼(710)의 온도를 국부적 혹은 전면적으로 측정할 수 있는 적외선 센서인 카메라(701)가 구비되어 있고, 상기 연마헤드(303)의 상부에는 제어수단에 의해 적절한 온도를 발생시키는 적외선 발생장치(703)와 상기 제어수단에 의해 적외선을 웨이퍼 면에 국부적으로 주사할 수 있는 반사 조절장치(704)가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 화학기계적 연마장치
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