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상압하에서, 플라즈마발생장치에 반응가스를 공급하고, 교류전원을 인가시켜 플라즈마를 발생시키고, 플라즈마 발생 영역에 Al이 도핑된 ZnO 박막(이하 "AZO 박막"이라 함)을 위치시켜, AZO 박막의 표면을 개질하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응가스는,
아르곤, 헬륨 및 질소 중 어느 하나의 가스에 산소를 첨가하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응가스는,
아르곤, 헬륨 및 질소 중 어느 하나의 가스에 수소를 첨가하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막의 제조방법
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기판과;
상기 기판 상면에 형성되며, ZnO에 Al이 도핑된 AZO층과;
상기 AZO층 표면에 형성되며, 상압하에서 플라즈마발생장치에 공급된 반응가스 및 교류전원에 의해 플라즈마 표면 개질되어 형성된 표면개질영역;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막
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제 4항에 있어서, 상기 반응가스는,
아르곤, 헬륨 및 질소 중 어느 하나의 가스에 산소를 첨가하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막
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제 5항에 있어서, 상기 AZO 박막은,
친수성을 가지는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막
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제 4항에 있어서, 상기 반응가스는,
아르곤, 헬륨 및 질소 중 어느 하나의 가스에 수소를 첨가하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막
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제 7항에 있어서, 상기 AZO 박막은,
소수성을 가지는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면 처리된 AZO 박막
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