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저주파를 이용한 금속표면의 플라즈마 세정방법 및 그 방법에 의하여 세정된 금속

  • 기술번호 : KST2015172181
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 진공가능한 처리용기 내에서 상부전극과 대향하여 배치되는 하부전극 상에 상기 피처리 금속을 위치시키고, 상기 상부전극과 상기 하부전극의 사이에 위치하는 가열 플레이트의 온도를 100 내지 250℃로 가열하고, 수소 가스를 유입하여 수소 분위기를 형성하고, 상기 하부전극에 주파수 10 KHz 내지 500 KHz의 범위 내로 설정된 저주파를 인가하여 금속 산화막을 제거하는 것을 포함하는 저주파를 이용한 금속표면의 플라즈마 세정방법을 개시한다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 발전기 중 가장 가격이 저렴하고, 실 공정장치에 제작이 용이한 저주파 플라즈마를 사용하여 수소 라디칼을 발생시켜 금속을 세정하는 방법이므로, 기존 RF(Radio Frequency) 및 마이크로웨이브 등의 플라즈마 처리 공정에 비해 경제적 측면 및 효율 면에서 뛰어나며, 산화환원 반응에 기초하여 금속 산화막을 순수 금속으로 환원시킨다. 플라즈마, 세정, 저주파, 금속, 기판
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/302 (2006.01)
CPC H01L 21/02068(2013.01)
출원번호/일자 1020090117543 (2009.12.01)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1086149-0000 (2011.11.16)
공개번호/일자 10-2011-0061031 (2011.06.09) 문서열기
공고번호/일자 (20111125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.01)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강정윤 대한민국 부산광역시 금정구
2 조승재 대한민국 부산광역시 서구
3 이아름 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김성현 대한민국 부산광역시 연제구 중앙대로 ****, *층 (거제동)(아너스특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0740326-49
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.06.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.07.16 수리 (Accepted) 9-1-2010-0046001-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0207947-74
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0359970-90
6 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2011.07.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0582132-85
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0582124-19
8 등록결정서
Decision to Grant Registration
2011.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0486509-11
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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진공가능한 처리용기 내에서 상부전극과 대향하여 배치되는 하부전극 상에 피처리 금속을 위치시키고, 상기 상부전극과 상기 하부전극의 사이에 위치하는 가열 플레이트의 온도를 100 내지 250℃로 가열하고, 수소 가스를 유입하여 수소 분위기를 형성하되 상기 처리용기 내에 수소 가스 주입시 내부 압력이 1
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제1항에 따른 플라즈마 세정방법에 의하여 세정된 금속
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국가 R&D 정보가 없습니다.