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전구체 공급부와 전구체 배출부가 구비된 복수개의 반응기를 포함하고, 상기 복수개의 반응기 중 적어도 하나의 반응기에 구비된 전구체 배출부가 다른 반응기의 전구체 공급부에 연결된 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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제1항에 있어서,
상기 연결된 전구체 배출부와 전구체 공급부에 의하여, 상기 적어도 하나의 반응기에서 배출된 미사용 전구체가 상기 다른 반응기에 공급되어 원자층 증착의 전구체로 재사용되는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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제1항에 있어서,
상기 연결된 전구체 배출부와 전구체 공급부는 직렬방식으로 연결된 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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제1항에 있어서,
상기 연결된 전구체 배출부와 전구체 공급부는 병렬방식으로 연결된 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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5
제1항에 있어서,
상기 전구체 공급부와 전구체 배출부가 구비된 복수개의 반응기는 2 내지 10개의 반응기로 이루어진 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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6
제1항에 있어서,
반응기에 공급되는 전구체의 양은 복수개의 반응기에서 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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7
제6항에 있어서,
상기 다른 반응기의 전구체 공급부는 별도의 전구체 저장부에서 공급된 전구체를 추가로 공급하여, 복수개의 반응기에 공급되는 전구체의 양이 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장비
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8
반응기에 전구체를 공급하여 증착대상 물질 표면에 전구체를 단일 원자층으로 흡착시키는 단계;
비활성기체로 퍼지시키며 미흡착 전구체 또는 반응 부산물을 배기시키는 단계; 및
비활성기체를 배기시키고 반응기체를 공급하여 전구체와 반응기체를 반응시켜 원자층을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 반응기에 공급되는 전구체는 다른 반응기에서 배출된 미반응 전구체를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착방법
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9
제8항에 있어서,
상기 반응기에 공급되는 전구체는 별도의 전구체 저장부에서 공급된 전구체를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착방법
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10
제9항에 있어서,
상기 다른 반응기에서 배출된 미반응 전구체와 상기 별도의 전구체 저장부에서 공급된 전구체의 합이 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 원자층 증착방법
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11
제8항에 있어서,
상기 증착대상 물질은 다공성 물질인 것을 특징으로 하는 원자층 증착방법
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