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편광유지형 광섬유 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015173841
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 편광유지형 광섬유로서,클래딩 영역내의 비대칭 잔류응력 발생영역으로서 열팽창계수 및 굴절율이 각각 상반되는 경향을 가진 이종 물질이 도핑된 실리카층을 구비함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유를 개시한다. 또한 본 발명은 편광유지형 광섬유의 제조방법으로서,코어의 외층에 도핑농도에 따른 열팽창계수 및 굴절율이 각각 상반되는 경향을 가진 이종 물질이 도핑된 실리카층을 형성하는 단계와, 이종 물질이 도핑된 실리카층의 외층에 실라카층을 형성하여 모재를 제조하는 단계와, 모재의 양측면을 절단하여 비대칭 잔류응력 발생영역을 성형하는 단계, 및 상기 성형된 모재의 양측에 클래딩 영역을 위한 실리카층을 형성하고 원하는 강도로 인출하는 단계를 포함하는 편광유지형 광섬유의 제조방법을 포함한다. 상기 구성에 의하면 고농도의 붕소를 도핑하지 않고서도 굴절률의 구조를 원통대칭 계단구조로 형성할 수 있고, 비대칭적으로 응력을 코어에 가할 수 있어 클래딩 영역을 활용할 수 있는 편광유지형 광섬유를 제조할 수 있다.
Int. CL G02B 6/02 (2006.01) G02B 6/024 (2006.01)
CPC G02B 6/024(2013.01) G02B 6/024(2013.01)
출원번호/일자 1020020038665 (2002.07.04)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0454232-0000 (2004.10.14)
공개번호/일자 10-2004-0003845 (2004.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20041026) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.07.04)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김덕영 대한민국 광주광역시광산구
2 박용우 대한민국 경기도성남시분당구
3 한승룡 대한민국 서울특별시강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 광주광역시 북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2002-0213958-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2003.11.19 수리 (Accepted) 4-1-2003-5076055-97
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0009559-48
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.02.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0081620-07
6 의견서
Written Opinion		 2004.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2004-0176676-01
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.04.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0176675-55
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.07.27 수리 (Accepted) 4-1-2004-0031183-30
9 등록결정서
Decision to grant		 2004.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0364506-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

편광유지형 광섬유에 있어서, 클래딩 영역내의 비대칭 잔류응력 발생영역으로서 열팽창계수 및 굴절율이 도핑농도와 양의 상관관계를 가지는 도핑물질과 음의 상관관계를 가지는 도핑물질이 도핑되어진 실리카층을 구비함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유
2 2

제 1항에 있어서,

도핑 물질은 인 및 불소임을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유
3 3

제 1항 또는 제 2항에 있어서,

상기 비대칭 잔류응력 발생영역의 굴절율을 클래딩 영역의 굴절율과 동일하게 함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유
4 4

제 1항 또는 제 2항에 있어서,

상기 비대칭 잔류응력 발생영역의 열팽창계수를 클래딩 영역의 굴절율과 동일하게 함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유
5 5

편광유지형 광섬유의 제조방법에 있어서,

코어의 외층에 열팽창계수 및 굴절율이 도핑농도와 양의 상관관계를 가지는 도핑물질과 음의 상관관계를 가지는 도핑물질이 도핑되어진 실리카층을 형성하는 단계와,

상기 이종물질이 도핑된 실리카층의 외층에 실리카층을 형성하여 모재를 제조하는 단계와,

모재의 양측면을 절단하여 비대칭 잔류응력 발생영역을 성형하는 단계, 및

상기 성형된 모재의 양측에 클래딩 영역을 위한 실리카층을 형성하고 원하는 강도로 인출하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유의 제조방법
6 6

제 5항에 있어서,

도핑 물질은 인 및 불소임을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유의 제조방법
7 7

제 5항 또는 제 6항에 있어서,

상기 비대칭 잔류응력 발생영역의 굴절율을 클래딩 영역의 굴절율과 동일하게 함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유의 제조방법
8 8

제 5항 또는 제 6항에 있어서,

상기 비대칭 잔류응력 발생영역의 열팽창계수를 클래딩 영역의 굴절율과 동일하게 함을 특징으로 하는 편광유지형 광섬유의 제조방법
9 9

제 5항에 있어서,

모재를 원하는 강도로 인출한 후 저 지수 폴리머로 외곽을 코팅하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 편광유지 광섬유의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.