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광소자 제작용 필름의 제조방법에 있어서, (a) 기판상에 전도층을 형성하는 단계; (b) 코팅입자의 분산액을 전기영동하여 상기 코팅입자를 전도층위에 코팅하는 단계; 및 (c) 상기 전도층 위에 형성된 코팅층을 압축하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 광소자 제작용 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 코팅입자는 세라믹, 형광체, 질화물, 또는 산화물임을 특징으로 하는 제조방법
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제 2항에 있어서, 세라믹 입자는 TiO2, ZnO, WO3, SiO2, NiOx, Nb2O3, VOx의 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합입자임을 특징으로 하는 제조방법
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제 2항에 있어서, 세라믹 입자의 분산액은 나이트레이트가 용해된 유기용매를 분산매로 함을 특징으로 하는 제조방법
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제 4항에 있어서, 분산매는 이소프로필알콜, 아세톤, 에탄올, 또는 메탄올의 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 유기용매임을 특징으로 하는 제조방법
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제 2항에 있어서, 분산액에서의 세라믹 입자의 농도는 0
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제 1항에 있어서, 전도층은 ITO, FTO, 또는 유기 전도성 물질을 포함함을 특징으로 하는 제조방법
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제 1항에 있어서, 기판은 유연성이 있는 고분자 기판임을 특징으로 하는 제조방법
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제 1항에 있어서, 기판은 유연성이 있는 고분자 기판임을 특징으로 하는 제조방법
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