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저온공정이 가능한 광소자 제작용 필름의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015173904
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 (a) 기판상에 전도층을 형성하는 단계; (b) 코팅입자의 분산액을 전기영동하여 상기 코팅입자를 전도층위에 코팅하는 단계; 및 (c) 상기 전도층 위에 형성된 코팅층을 압축하는 단계를 포함하는 광소자 제작용 필름의 제조방법을 제공한다. 상기 구성에 의하면, 광학적 전기적 특성을 발휘하기 위해 사용되어지는 각종 필름의 제조공정상 고온의 열처리 공정을 거치지 않고도 원하는 광학적 전기적 특성을 얻을 수 있으며, 불필요한 유기물을 사용할 필요없이 필름을 제조할 수 있다.
Int. CL B32B 7/02 (2006.01)
CPC H05K 3/188(2013.01) H05K 3/188(2013.01) H05K 3/188(2013.01) H05K 3/188(2013.01) H05K 3/188(2013.01)
출원번호/일자 1020030094798 (2003.12.22)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2005-0063398 (2005.06.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.12.22)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 성영은 대한민국 광주광역시북구
2 염준호 대한민국 광주광역시북구
3 김석순 대한민국 광주광역시북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2003-0489709-37
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.07.27 수리 (Accepted) 4-1-2004-0031183-30
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.08.17 수리 (Accepted) 9-1-2005-0050273-82
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0403629-16
6 의견서
Written Opinion
2005.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2005-0603107-84
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2005.12.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0630281-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광소자 제작용 필름의 제조방법에 있어서, (a) 기판상에 전도층을 형성하는 단계; (b) 코팅입자의 분산액을 전기영동하여 상기 코팅입자를 전도층위에 코팅하는 단계; 및 (c) 상기 전도층 위에 형성된 코팅층을 압축하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 광소자 제작용 필름의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 코팅입자는 세라믹, 형광체, 질화물, 또는 산화물임을 특징으로 하는 제조방법
3 3
제 2항에 있어서, 세라믹 입자는 TiO2, ZnO, WO3, SiO2, NiOx, Nb2O3, VOx의 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합입자임을 특징으로 하는 제조방법
4 4
제 2항에 있어서, 세라믹 입자의 분산액은 나이트레이트가 용해된 유기용매를 분산매로 함을 특징으로 하는 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 분산매는 이소프로필알콜, 아세톤, 에탄올, 또는 메탄올의 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 유기용매임을 특징으로 하는 제조방법
6 6
제 2항에 있어서, 분산액에서의 세라믹 입자의 농도는 0
7 7
제 1항에 있어서, 전도층은 ITO, FTO, 또는 유기 전도성 물질을 포함함을 특징으로 하는 제조방법
8 8
제 1항에 있어서, 기판은 유연성이 있는 고분자 기판임을 특징으로 하는 제조방법
9 8
제 1항에 있어서, 기판은 유연성이 있는 고분자 기판임을 특징으로 하는 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.