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질화물계 발광소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015174572
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 형성된 AlN층; 및 상기 AlN층 상에 형성된 GaN층을 포함하는 질화물계 발광소자의 제조방법에 있어서, 상기 AlN층을 형성하는 단계는, 온도를 일정하게 유지하면서 상기 실리콘 기판 상에 Al 소스를 도입하는 단계; 온도를 상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 성장시키는 단계; 상승된 온도를 일정하게 유지하면서 N 소스의 공급을 중단하고 Al 소스를 재도입하는 단계; 및 온도를 재상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 재성장시키는 단계를 포함하는, 질화물계 발광소자의 제조방법의 제조방법이 제공된다.본 발명에 따르면, 가격이 저렴하고 높은 결정성 및 대면적 웨이퍼 공정이 가능한 실리콘 기판을 활용하면서도 기판 상에 형성되는 GaN 층의 결함을 줄이고 크랙 발생을 감소시켜 전기적 특성이 향상된 발광소자를 제공할 수 있다. 또한, AlN 및 GaN의 박막 결정성의 향상, 전위 전파 차단, 하부 잔류응력 완화를 통하여 내부양자효율을 향상시키고 발광효율이 크게 증가된 발광소자를 제공할 수 있다.
Int. CL H01L 33/12 (2010.01)
CPC H01L 33/0079(2013.01) H01L 33/0079(2013.01) H01L 33/0079(2013.01) H01L 33/0079(2013.01)
출원번호/일자 1020140055535 (2014.05.09)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1532267-0000 (2015.06.23)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150630) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.05.09)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성주 대한민국 광주광역시 북구
2 이광재 대한민국 광주광역시 북구
3 김상조 대한민국 광주광역시 북구
4 오세미 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2014-0437388-02
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.03.13 수리 (Accepted) 9-1-2015-0018408-54
4 등록결정서
Decision to grant
2015.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0410465-24
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 형성된 AlN층; 및 상기 AlN층 상에 형성된 GaN층을 포함하는 질화물계 발광소자의 제조방법에 있어서, 상기 AlN층을 형성하는 단계는,온도를 일정하게 유지하면서 상기 실리콘 기판 상에 Al 소스를 도입하는 단계;온도를 상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 성장시키는 단계; 상승된 온도를 일정하게 유지하면서 N 소스의 공급을 중단하고 Al 소스를 재도입하는 단계; 및온도를 재상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 재성장시키는 단계를 포함하는, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 재도입하는 단계 및 상기 AlN을 재성장시키는 단계는 1회 또는 복수회 수행되는 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 Al 소스는 유기알루미늄인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 N 소스는 암모니아인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 도입하는 단계에서의 온도는 600~800℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 재도입하는 단계에서의 온도는 700~930℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 AlN을 재성장시키는 단계 완료 후의 온도는 1000~1100℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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국가 R&D 정보가 없습니다.