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실리콘 기판; 상기 실리콘 기판 상에 형성된 AlN층; 및 상기 AlN층 상에 형성된 GaN층을 포함하는 질화물계 발광소자의 제조방법에 있어서, 상기 AlN층을 형성하는 단계는,온도를 일정하게 유지하면서 상기 실리콘 기판 상에 Al 소스를 도입하는 단계;온도를 상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 성장시키는 단계; 상승된 온도를 일정하게 유지하면서 N 소스의 공급을 중단하고 Al 소스를 재도입하는 단계; 및온도를 재상승시키면서 Al 소스와 N 소스를 동시에 공급하여 AlN을 재성장시키는 단계를 포함하는, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 재도입하는 단계 및 상기 AlN을 재성장시키는 단계는 1회 또는 복수회 수행되는 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 Al 소스는 유기알루미늄인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 N 소스는 암모니아인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 도입하는 단계에서의 온도는 600~800℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 Al 소스를 재도입하는 단계에서의 온도는 700~930℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 AlN을 재성장시키는 단계 완료 후의 온도는 1000~1100℃인 것인, 질화물계 발광소자의 제조방법
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