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기폭초시 제어에 기반한 터널 발파방법

  • 기술번호 : KST2015176901
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 터널 발파시 터널의 미굴 및 여굴 현상을 방지하기 위한 터널 발파 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, ⒜ 터널의 전전열공 영역에 천공된 복수의 장약공에 제1 뇌관을 삽입하고, 상기 삽입된 제1 뇌관 각각을 제1 도폭선에 접속시킨 후, 상기 제1 도폭선을 별도의 주 기폭장치와 연결되어 있는 제3 뇌관에 접속시키는 단계; ⒝ 터널의 전열공 영역에 천공된 복수의 장약공에 제2 뇌관을 삽입하고, 상기 삽입된 제2 뇌관 각각을 제2 도폭선에 접속시킨 후, 상기 제2 도폭선을 상기 별도의 주 기폭장치와 연결되어 있는 제4 뇌관에 접속시키는 단계; ⒞ 상기 별도의 주 기폭장치에 의해 상기 제3 뇌관이 기폭됨에 따라, 상기 제3 뇌관과 접속된 제1 도폭선 및 상기 제1 도폭선과 접속된 상기 제1 뇌관 각각을 순차적으로 기폭시켜 상기 터널의 전전열공 영역을 발파하는 단계; 및 ⒟ 상기 별도의 주 기폭장치에 의해 상기 제4 뇌관이 기폭됨에 따라, 상기 제4 뇌관과 접속된 제2 도폭선 및 상기 제2 도폭선과 접속된 상기 제2 뇌관 각각을 순차적으로 기폭시켜 상기 터널의 전열공 영역을 발파하는 단계; 를 포함한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 터널의 미굴 및 여굴 현상이 발생하는 것을 방지하는 효과가 있으며, 여굴 및 미굴에 대한 추가 작업을 최소화함에 따라 터널 시공시 안정성을 확보하고, 터널 시공시간 및 비용을 절감하는 효과도 있다.
Int. CL F42D 3/04 (2006.01) F42D 1/06 (2006.01)
CPC F42D 1/06(2013.01) F42D 1/06(2013.01) F42D 1/06(2013.01) F42D 1/06(2013.01)
출원번호/일자 1020100023149 (2010.03.16)
출원인 전남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0104172 (2011.09.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.16)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전남대학교산학협력단 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최병희 대한민국 대전광역시 서구
2 양형식 대한민국 광주광역시 남구
3 두준기 대한민국 서울특별시 구로구
4 장형두 대한민국 서울특별시 서초구
5 김원범 대한민국 광주광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)
2 유완식 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, **층 *T 국제특허법률사무소 (역삼동, 여삼빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0165016-37
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0039708-62
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0217841-11
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2012-0309311-15
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2012-0398637-47
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2012-0477725-43
7 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2012.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0075511-55
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0578966-20
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0578965-85
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2012-5157698-67
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0719396-71
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000058-61
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2015-5076218-57
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.07.07 수리 (Accepted) 4-1-2016-5093177-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2018-5056463-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법에 있어서, 터널 발파를 위해 구분된 영역인 심발공 영역, 전전열공 영역, 전열공 영역 및 외곽공 영역 각각에 소정의 깊이를 갖도록 복수의 장약공을 천공하되,⒜ 상기 터널의 전전열공 영역에 천공된 복수의 장약공에 제1 뇌관을 삽입하고, 상기 삽입된 제1 뇌관 각각을 제1 도폭선에 접속시킨 후, 상기 제1 도폭선을 별도의 주 기폭장치와 연결되어 있는 제3 뇌관에 접속시키는 단계;⒝ 상기 터널의 전열공 영역에 천공된 복수의 장약공에 제2 뇌관을 삽입하고, 상기 삽입된 제2 뇌관 각각을 제2 도폭선에 접속시킨 후, 상기 제2 도폭선을 상기 별도의 주 기폭장치와 연결되어 있는 제4 뇌관에 접속시키는 단계; ⒞ 상기 별도의 주 기폭장치에 의해 상기 제3 뇌관이 기폭됨에 따라, 상기 제3 뇌관과 접속된 제1 도폭선 및 상기 제1 도폭선과 접속된 상기 제1 뇌관 각각을 순차적으로 기폭시켜 상기 터널의 전전열공 영역을 발파하는 단계; 및⒟ 상기 별도의 주 기폭장치에 의해 상기 제4 뇌관이 기폭됨에 따라, 상기 제4 뇌관과 접속된 제2 도폭선 및 상기 제2 도폭선과 접속된 상기 제2 뇌관 각각을 순차적으로 기폭시켜 상기 터널의 전열공 영역을 발파하는 단계; 를 포함하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 ⒝ 단계는, 상기 터널의 전열공 영역에 천공된 복수의 장약공 중 제1 장약공에 삽입된 제2 뇌관보다 상기 제1 장약공 하단에 천공된 제2 장약공에 삽입된 다른 제2 뇌관이 느린 기준초시를 갖도록 상기 제2 뇌관을 삽입하는 것을 특징으로 하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제2 뇌관은, MS 뇌관(Milli-Second Delay Detonator)인 것을 특징으로 하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제3 뇌관은, LP 뇌관(Long-Period Delay Detonator)인 것을 특징으로 하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 제4 뇌관은, LP 뇌관(Long-Period Delay Detonator)인 것을 특징으로 하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제4 뇌관은, 상기 제3 뇌관의 기준초시보다 소정의 시간 느린 기준초시를 갖는 것을 특징으로 하는 기폭초시 제어에 기반한 터널 발파 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 국토해양부 한국건설기술연구원 첨단도시개발사업 IT 및 신소재를 활용한 급속안정화 터널 시공기술 개발