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a) 탄화고분자 용액 및 미탄화고분자 용액을 준비하는 단계; b) 상기 탄화고분자 용액과 상기 미탄화고분자 용액을 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계; c) 상기 혼합 용액을 전기방사하여 탄소나노시트를 제조하는 단계; 및d) 상기 탄소나노시트를 열처리하여 기공을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 탄화 고분자 및 상기 미탄화 고분자의 Hilderbrand 용해도 상수의 차이에 의하여 상기 기공의 크기가 조절되는 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄화 고분자 및 상기 미탄화 고분자의 Hilderbrand 용해도 상수의 차이와 상기 기공의 크기가 비례 관계인 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄화 고분자 및 상기 미탄화 고분자의 Hilderbrand 용해도 상수의 차이가 작을수록 비표면적이 커지는 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄화 고분자 및 상기 미탄화 고분자의 Hilderbrand 용해도 상수의 차이가 5 이하인 경우 상기 기공의 크기가 2 nm 이하인 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄화 고분자 및 상기 미탄화 고분자의 Hilderbrand 용해도 상수의 차이가 10 이상인 경우 상기 기공의 크기가 10 nm 이상인 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 탄소나노시트를 열처리하여 기공을 형성하는 단계는 제 1 열처리 및 제 2 열처리를 포함하는 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 제 1 열처리는 상온에서 1 ℃/ min 의 승온 속도로 250 내지 300 ℃까지 승온시킨 후 1시간 동안 유지하는 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 제 2 열처리는 상기 제 1 열처리후 5 ℃/ min 의 승온 속도로 900 내지 1100 ℃까지 승온시킨 후 1시간 동안 유지하는 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 탄소나노시트는 탄소 나노 섬유 웹인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄화고분자는 폴리아크릴로 나이트릴(polyacrylnitrile, PAN), 페놀수지(phenol-resin), 피치류(pitch), 셀룰로오스계 고분자(cellulose), 폴리이미드(polyimide), 및 폴리벤질이미다졸(polybenzimidazole)로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나 이상인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 미탄화고분자는 폴리아크릴릭산 (Polyacrylic acid, PAA), 폴리에틸렌글리콜(Polyethylene glycol, PEG), 폴리메타메타크릴레이트 (Polymethylmethacrylate, PMMA), 폴리스티렌 (Polystyrene, PS) 및 폴리비닐 피롤리딘(Polyvinylpyrrolidone, PVP), 폴리락틱계 고분자(polylaticacid, PLA), 폴리카프로락톤(polycarpolactone, PCL) 및 폴리비닐알콜(polyvinylachol, PVA)로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나 이상인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 a) 단계의 탄화고분자 용액의 점도를 η탄화, 미탄화고분자 용액의 점도를 η미탄화, 상기 혼합 용액에서 상기 탄화 고분자 용액의 부피 비율을 Φ탄화, 상기 미탄화 고분자 용액의 부피 비율을 Φ미탄화 라고 할 때, 아래 식을 만족하는 것인 다공성 탄소나노시트의 제조방법
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제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 하나의 제조방법에 의하여 제조된 다공성 탄소나노섬유를 포함하는 다공성 탄소나노시트
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제 13 항에 있어서,상기 다공성 탄소나노시트의 기공의 크기는 10 nm 내지 50nm인 다공성 탄소나노시트
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제 13 항에 따른 탄소나노시트를 포함하는 전기화학소자
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