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태양전지 제조방법으로서:(a) 하부구조 상에 상기 하부구조의 표면을 노출시키는 다수개의 노출부를 가지는 포토레지스트 마스크를 형성하는 단계; 및(b) 상기 하부구조의 노출된 표면에 광흡수층의 일부 또는 전부를 위한 기둥형 전구체층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 포토레지스트 마스크의 형성은 레이저 리소그래피를 이용하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 1에 있어서,(c) 상기 포토레지스트 마스크를 제거하는 단계; 및(d) 적어도 상기 하부구조 상면의 노출된 부위를 덮도록 광흡수층을 위한 추가적인 전구체층을 더 형성하는 단계;를 포함하고,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 2에 있어서,(e) 상기 기둥형 전구체층 및 상기 추가적인 전구체층을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 더 포함하고,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 3에 있어서,상기 열처리는 황화 또는 셀렌화 분위기에서 수행되는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 하부구조는 기판과 상기 기판 상에 형성된 후면전극층을 포함하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 5에 있어서,상기 광흡수층 상에 버퍼층, 윈도우층 및 전면 전극을 순차로 형성하는 단계들을 더 포함하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 광흡수층은 CZTS 기반의 물질인 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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태양전지 제조방법으로서:(a) 하부구조 상에 광흡수층의 일부를 위한 버퍼 전구체층을 형성하는 단계;(b) 상기 버퍼 전구체층의 표면을 노출시키는 다수개의 노출부를 가지는 포토레지스트 마스크를 형성하는 단계; 및(c) 상기 버퍼 전구체층의 노출된 표면에 광흡수층의 일부를 위한 기둥형 전구체층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 포토레지스트 마스크의 형성은 레이저 리소그래피를 이용하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 8에 있어서,(d) 상기 포토레지스트 마스크를 제거하는 단계; 및(e) 상기 버퍼 전구체층 및 상기 기둥형 전구체층을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 더 포함하고,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 9에 있어서,상기 열처리는 황화 또는 셀렌화 분위기에서 수행되는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 10에 있어서,상기 하부구조는 기판과 상기 기판 상에 형성된 후면전극층을 포함하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 광흡수층 상에 버퍼층, 윈도우층 및 전면 전극을 순차로 형성하는 단계들을 더 포함하는 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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청구항 12에 있어서,상기 광흡수층은 CZTS 기반의 물질인 것인,3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지 제조방법
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