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기판 상에 하부전극을 형성하는 단계;상기 하부전극 상에 패턴 형광체층을 형성하는 단계;상기 패턴 형광체층의 전면에 스퍼터링법, 진공증착법 또는 급속 열처리법으로 CIGS(CuIn1-xGaxSe2, 0<x<1)의 광흡수층을 형성하는 단계;상기 광흡수층 상에 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층 상에 투명전극층을 형성하는 단계; 및상기 투명전극층 상에 상부전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 패턴 형광체층을 형성하는 단계는, 상기 하부전극 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계와, 상기 마스크 패턴 사이로 노출된 하부전극 상에 형광체를 도입시키는 단계와, 상기 마스크 패턴을 제거하는 단계를 포함하여, 상기 패턴 형광체층은 상기 하부전극 상에 돌출된 패턴 구조를 가지며,상기 패턴 형광체층에 함유된 형광체는 350nm 이하의 파장 대역의 광 또는 1000nm 이상의 파장 대역의 광을 흡수하여, 상기 형광체는 500nm ∼ 800nm의 파장 대역의 광을 방출하며,상기 하부전극은 Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd 및 Pd 중에서 선택되는 적어도 어느 하나로 형성되어 광을 반사하는 것인, 태양전지의 제조방법
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