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수평 성장된 나노와이어를 포함하는 다양한 구조를 갖는 박막 트랜지스터 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015178519
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노와이어를 포함하는 다양한 구조를 갖는 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 박막 트랜지스터 제조방법은 기판에 절연층을 형성하는 단계와, 절연층 위에 시드층을 형성하는 단계와, 시드층을 부분 식각하기 위한 식각 방지층을 시드층에 도포하는 단계와, 시드층을 부분 식각하는 단계와, 식각된 시드층의 수평 방향으로 나노와이어를 측면 성장시키는 단계와, 식각 방지층을 제거하고 시드층 위에 소스/드레인 중 어느 하나의 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 크로스링크의 우려가 없는 나노와이어를 반도체 채널층으로 성장시켜 높은 전자이동도를 갖는 다양한 구조의 박막 트랜지스터를 용이하게 제조할 수 있다. 또한 촉매 없이 저온, 대면적 공정에서 나노와이어를 포함하는 다양한 구조의 박막 트랜지스터를 대량으로 제조할 수 있다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC H01L 29/0673(2013.01) H01L 29/0673(2013.01) H01L 29/0673(2013.01)
출원번호/일자 1020100037826 (2010.04.23)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1076544-0000 (2011.10.18)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20111024) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020110092762;
심사청구여부/일자 Y (2010.04.23)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한윤봉 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
2 박용규 대한민국 전라북도 전주시 완산구

대리인

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최종권리자

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1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0262404-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0412882-58
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.08.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0618418-15
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.08.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0618556-18
6 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2011.09.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0715657-18
7 등록결정서
Decision to grant
2011.10.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0583240-22
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
10 출원인정보변경(경정)신고서
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2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
12 출원인정보변경(경정)신고서
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2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
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번호 청구항
1 1
기판과,상기 기판 위에 형성되고 성장 절단면을 갖는 시드층과,상기 성장 절단면에서 수평 방향으로 측면 성장되며 반도체 채널층의 동작을 하는 나노와이어와,상기 시드층 위에 형성된 소스/드레인 전극 중 제1 전극과,상기 나노와이어에서 상기 성장 절단면의 반대쪽에 형성된 소스/드레인 전극 중 제2 전극을 포함하고, 상기 제2 전극은 상기 기판 상에서 상기 제1 전극을 둘러싸는 형태인 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
2 2
제 1 항에 있어서,상기 성장 절단면은 상기 시드층을 식각하여 형성되는 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제2 전극은 서클(circle) 모양, 도우넛 모양, 타원 모양, 다각형 중 어느 하나인 것을 특징으로 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
4 4
제 1 항에 있어서,상기 반도체 채널층은 나노와이어 다발인 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
5 5
제 1 항에 있어서,상기 나노와이어는 상기 시드층의 측면으로부터 상기 시드층에 수평한 방향으로 성장한 형태인 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
6 6
제 1 항에 있어서,상기 나노와이어는 ZnO, GaN, Si, SnO2 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
7 7
제 1 항에 있어서,상기 반도체 나노와이어는 Li, Na, K, Sc, Be, Mg, Ca, Mn, Fe, Cu, Al, V, Ga, In, S, Sn, Se, As, B, Sb, Te 중에서 선택된 적어도 하나의 원소로 도핑된 것을 특징으로 하는 나노와이어 반도체 채널층을 갖는 박막 트랜지스터
8 8
제 1 항 내지 제 7 항 어느 한 항에 따른 박막 트랜지스터를 포함하는 디스플레이 소자
9 9
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10 10
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11 11
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12 12
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13 13
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14 14
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지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101082230 KR 대한민국 FAMILY
2 WO2011132824 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2011132824 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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