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공정가스가 공급되며 내부로 기판이 반입되는 챔버;상기 챔버의 내부에서 상기 공정가스를 확산시키는 샤워헤드; 및상기 샤워헤드에 마주하도록 배치되어 상기 기판이 안착되는 기판 안착 홈이 형성되고, 상부면에 커버부재가 구비되는 서셉터를 포함하며,상기 샤워헤드는 상기 샤워헤드의 내벽으로부터 이격 배치된 제 1격벽에 의해 상기 샤워헤드의 내벽과 상기 제 1격벽 사이에 형성되는 환형의 제 1구획실과, 상기 제 1격벽의 내측에서 상기 제 1격벽으로부터 이격 배치된 제 2격벽에 의해 제 1격벽과 제 2격벽 사이에 형성된 환형의 제 2구획실과, 상기 제 2격벽의 내측에 형성된 제 3구획실을 포함하고,상기 공정가스는 상기 제 1, 2, 3구획실의 내부로 각각 공급되며, 상기 제 1, 2, 3구획실의 내부로 각각 유입되는 상기 공정가스의 유량은 상이한 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 1항에 있어서,상기 커버부재의 재질은 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 1항에 있어서,상기 샤워헤드의 내부에는 이격 적층되는 복수 개의 공급층이 형성되고, 상기 복수 개의 공급층 중 적어도 어느 하나에는 지르코늄(Zr: Zirconium)을 포함하는 제 1공정가스가 공급되는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 3항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 제 1공정가스가 공급되는 제 1공급층과, 상기 제 1공급층의 하부에 구비되어 제 2공정가스가 공급되는 제 2공급층과, 상기 제 2공급층의 하부에 구비되어 제 3공정가스가 공급되는 제 3공급층과, 상기 제 1공급층의 내부로부터 상기 샤워헤드의 저면을 관통하도록 구비되는 제 1공급관과, 상기 제 2공급층의 내부로부터 상기 샤워헤드의 저면을 관통하도록 구비되는 제 2공급관과, 상기 제 3공급층의 내부로부터 상기 샤워헤드의 저면을 관통하도록 구비되는 제 3공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 4항에 있어,상기 제 2공정가스는 유기금속가스를 포함하고, 상기 제 3공정가스는 암모니아(NH3: Ammonia)를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 1항에 있어서,상기 챔버 내부에 진공분위기를 형성하는 제 1배기유닛과, 상기 챔버의 내부에서 확산되는 세정가스를 스크러버(Scrubber)로 배기하는 제 2배기유닛을 더 포함하되, 상기 제 1, 2배기유닛은 선택적으로 운용되는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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제 1항에 있어서,상기 기판에는 지르코늄 질화물(ZrN: Zirconium nitride)이 격자 성장되는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치
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