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기판; 제 1 도전형 반도체층; 광흡수층 및 제 2 도전형 반도체층을 구비하고, 상기 광흡수층이 서로 다른 에너지 밴드갭을 갖는 하나 이상의 양자점층을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1 항에 있어서, 상기 기판 아래에 하부 전극층 및 상기 제 2 도전형 반도체층 위에 상부 전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 광흡수층이 서로 다른 에너지 밴드갭을 갖는 하나 이상의 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체층 및 하나 이상의 양자점층이 텐덤방식으로 적층된 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 광흡수층이 화합물 반도체층상에 형성된 하나 이상의 양자점층을 포함하고, 상기 양자점층은 상기 화합물 반도체층보다 에너지 밴드갭이 큰 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 4항에 있어서, 상기 광흡수층이 상기 양자점층 상에 제 2 화합물 반도체층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 양자점층들은 하층보다 상층이 에너지 밴드갭이 크도록 적층된 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 기판이 GaAs, Si 또는 Ge 기판인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 도전형 반도체층 및 제 2 도전형 반도체층은 각각 n-형 또는 p-형 반도체로서 상호 반대되는 도전 특성을 갖고, 상기 p-형 반도체는 III-V족 화합물 반도체에 Ⅱ족 성분이 도핑되고, 상기 n-형 반도체는 III-V족 화합물 반도체에 IV족 성분이 도핑된 것을 특징으로 하는 태양전지
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제 1항에 있어서, 상기 양자점층은 InAs, GaAs, InGaAs, InAlAs, InAlGaAs, InSb, InGaSb, InAlSb, InAlGaSb, InAsN, InGaAsN,InAlAsN, InAlGaAsN, InSbN, InGaSbN, InAlSbN, InAlGaSbN, InAsP, InGaAsP, InAlAsP, InAlGaAsP, InSbP, InGaSbP, InAlSbP 및 InAlGaAsP로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 양자점으로 형성된 것을 특징으로 하는 태양전지
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기판, 제 1 도전형 반도체층을 순차로 형성하는 단계;상기 제 1 도전형 반도체층 상에 하나 이상의 Ⅲ-Ⅴ족 화합물 반도체층 및 하나 이상의 양자점층을 텐덤방식으로 광흡수층을 형성하는 단계 ; 및 상기 광흡수층 상에 제 2 도전형 반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 방법은 S-K(Stranski-Krastanov) 성장법, 원자층 성장 기법(Atomic Layer Epitaxy, ALE), droplet epitaxy법을 이용하여 양자점층을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 방법은 하층보다 상층에 사이즈가 작은 양자점을 사용하여 하층보다 상층이 에너지 밴드갭이 크도록 적층하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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13
제 10항에 있어서, 상기 방법은 상기 양자점 내부의 물질 조성 또는 양자점의 종류를 변경하여 하층보다 상층이 에너지 밴드갭이 크도록 적층하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 방법은 각 양자점층의 성장시간, 온도 또는 성장변수를 달리하여 서로 다른 밴드갭을 갖는 양자점층들을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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