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타이타늄 임플란트의 표면처리 방법 및 그 방법에 의해 제조된 임플란트

  • 기술번호 : KST2015179136
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법과 그 방법에 의해 제조된 임플란트가 개시된다. 본 발명에 의한 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법과 그 방법에 의해 처리된 임플란트는 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 양극으로 하고, 백금, 텅스텐 및 은 중에 선택된 어느 하나를 음극으로 하며, 전해질 용액을 이용하여 양극을 산화시킴으로써, 타이타늄 또는 타이타늄 합금의 임플란트 표면에 이산화타이타늄 나노튜브를 형성하는 단계 및 상기 표면에 이산화타이타늄 나노튜브가 형성된 임플란트 표면에 비스포스포네이트 계 약물 또는 비스포스포네이트 계 약물과 항생제의 혼합물을 침투시켜 처리하는 단계를 포함하며, 이 방법에 의해 제조된 임플란트이다.
Int. CL A61L 27/06 (2006.01.01) A61L 27/30 (2006.01.01) A61L 27/54 (2006.01.01)
CPC A61L 27/06(2013.01) A61L 27/06(2013.01) A61L 27/06(2013.01) A61L 27/06(2013.01)
출원번호/일자 1020100002498 (2010.01.12)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0082658 (2011.07.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.01.12)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 배태성 대한민국 전북 전주시 완산구
2 소윤조 대한민국 경기도 용인시 기흥구
3 이민호 대한민국 전북 전주시 완산구
4 김세림 대한민국 전라북도 전주시 완산구
5 박일송 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
6 박형호 대한민국 전라북도 전주시 완산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한지희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** 한국지식재산센터 *층 (공익변리사 특허상담센터)(한국지식재산보호원)
2 권영규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *** (역삼동, 재승빌딩 *층)(프라임특허법률사무소)
3 윤재석 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **(서초동) *층(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2010-0017626-96
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2010-5215075-14
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2010.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2010-5037970-84
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.11.17 수리 (Accepted) 4-1-2010-5215083-79
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.05.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0052060-18
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0408248-82
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0704846-94
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0704844-03
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0185688-72
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0634809-10
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
타이타늄(Ti) 또는 타이타늄 합금을 양극으로 하고,백금(Pt), 텅스텐(W) 및 은(Ag) 중에 선택된 어느 하나를 음극으로 하며,전해질 용액을 이용하여 양극을 산화시킴으로써,타이타늄 또는 타이타늄 합금의 임플란트 표면에 이산화타이타늄(TiO2) 나노튜브를 형성하는 단계; 및상기 표면에 이산화타이타늄 나노튜브가 형성된 임플란트 표면에 비스포스포네이트(bisphosphonates) 계 약물 또는 비스포스포네이트 계 약물과 항생제의 혼합물을 침투시켜 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 양극산화는,정전압, 정전류의 조건 하에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 정전압, 정전류의 조건은,5 내지 50㎃/㎠의 일정한 전류 밀도로 최종전압이 10 내지 50V에 이르도록 하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
4 4
제3항에 있어서,상기 최종전압은,30분 내지 3시간 동안 지속하도록 하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 타이타늄 합금은, Ti-6Al-4V, Ti-6Al-7Nb, Ti-13Nb-13Zr, Ti-15Mo, Ti-35
6 6
제1항에 있어서,상기 전해질 용액은,글리세롤(glycerol) 또는 에틸렌글리콜(ethylene glycol), 불화암모늄(NH4F) 및 물(H2O)을 포함하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 불화 암모늄(NH4F)은,전체 전해질 용액 중 0
8 8
제6항에 있어서,상기 물(H2O)은,전체 전해질 용액 중 10 내지 50 wt%를 차지하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 비스포스포네이트 계 약물은,Ethane-1-hydroxy-1,1-bisphosphonate (에티드로네이트; etidronate), 3-Amino-1-hydroxy-propylidene bisphosphonate (파미드로네이트; pamidronate), 4-Amino-1-hydroxy-butylidene bisphosphonate (알렌드로네이트; alendronate) 및 1-hydroxy-3-[methyl(pentyl)amino]propane-1,1-diyl}bisphosphonate(이반드로네이트; ibandronate) 중에 선택된 어느 하나로 하는 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 항생제는,테트라사이클린(tetracycline), 반코마이신(vancomycin), 아목시실린(amoxicillin) 및 아목시실린과 클라부란산(clavulanic acid)의 혼합물 중에 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 타이타늄 임플란트의 표면처리 방법
11 11
제1항 내지 제10항 중에 선택된 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 타이타늄 임플란트
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.