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홀로그라피방법에의한분광회절격자의그제조방법

  • 기술번호 : KST2015179201
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 포토레지스트를 감광재료로 사용하므로써 제작이 간단하며 제작단가가 저렴하고 회전효율이 높으며 산란광이 적도록 한다.사용파장이 488NM인 아르곤이온 레이저(1)로부터 나온 광을 10배의 배율을 갖는 현미경 렌즈와 20마이크로미터 크기의 핀홀로 구성된 공간필터(2)를 통과시키면 광은 공간적으로 균일한 강도 분포를 얻게 되며 다시 평행렌즈(3)를 통과하여 광의 크기가 확대된 평행광이 된다. 이 평행광은 광속 분할기(4)를 지나면서 두개의 평행광으로 분할되어 회전판위에 부착된 두개의 거울(5)(6)에 각각 입사한후 반사되어 감광재료인 포토레지스트가 코팅된 유리기판(7)위에 입사된다. 이때 입사되는 두 평행광의 입사각은 거울에 부착된 회전판에 의하여 조절되며 이때 생긴 간섭무늬의 간격(d)은 입사각 세타에 의하여 결정된다.
Int. CL G03H 1/00 (2006.01) G02B 5/18 (2006.01)
CPC G02B 5/1857(2013.01) G02B 5/1857(2013.01) G02B 5/1857(2013.01)
출원번호/일자 1019860010048 (1986.11.27)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0035735-0000 (1990.09.05)
공개번호/일자 10-1988-0006580 (1988.07.23) 문서열기
공고번호/일자 1019900001640 (19900317) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1987.01.16)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이인원 대한민국 대전시중구
2 정만호 대한민국 충남대전시중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김경식 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로 ***, *층 (서초동, 모인터빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국표준연구소 대한민국 대전시중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1986.11.27 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057408-33
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1986.11.27 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057409-89
3 출원심사청구서
Request for Examination		 1987.01.16 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057410-25
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1989.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0037810-10
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 1989.10.20 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057411-71
6 지정기간연장승인서
Acceptance of Extension of Designated Period		 1989.10.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0037811-55
7 의견서
Written Opinion		 1989.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057412-16
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1989.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1986-0057413-62
9 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1990.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0037812-01
10 등록사정서
Decision to grant		 1990.06.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0037814-92
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008522-00
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.25 수리 (Accepted) 4-1-1999-0038464-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0073381-61
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.02.15 수리 (Accepted) 4-1-2006-5019752-35
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

홀로그라피에 쓰이는 사건건판의 은염과 젤라틴을 제거한 유리기판에 이온이 제거된 물로 세척하고 알코넥스 혹은 연성비누의 용액에서 초음파 세척하여 이를 다시 이온이 제거된 물로 세척하고 구워 다시 냉각시키고 포토레지스트로 스핀 코팅한후 구워서 기판을 제조하며 기판에 노출시키는 방법에 있어서, 아르곤 이온레이저(1)로부터 나온 광을 현미경렌즈와 공간필터(2)를 통과시키고 다시 평행렌즈(3)와 광속분할기(4)를 통과시켜 회전판 위에 부착된 두개의 거울(5)(6)에 입사시킨후 기판(7)에 입사시켜 간격(d)가 결정되게 노출시키고 현상용액에 현상하여 수세한후 구워 투과형 회절격자를 제작하고 그 위에 알루미늄으로 코팅하여 표면양각시킴을 특징으로 하는 홀로그라피방법에 의한 분광 회절격자의 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 최대회절효율을 얻기 위하여 포토레지스트의 두께와 회절격자의 간격의 비가 1

3 3

제1항에 있어서, 사용파장이 488nm인 아르곤 이온 레이저(1)의 광속을 10배의 배율을 갖는 현미경렌즈와 20㎛ 크기의 핀홀로 구성된 한개의 공간 필터를 통과시킨후 회전판에 부착된 두개의 거울에 입사시켜 영점조정 및 입사각θ를 정확하고 용이하게 결정함을 특징으로 하는 홀로그라피방법에 의한 분광 회절격자의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.