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전자밀도의 변화가 있는 플라즈마(2000)를 내포한 챔버(100); 상기 플라즈마(2000)의 밀도와 방사되는 전자파의 주파수가 상관관계를 갖도록 상기 챔버(100)에 일측이 실장되는 안테나 구조의 전자파 송수신수단; 상기 전자파 송수신수단으로 소정대역의 각 주파수별 전자파가 연속 방사되도록 상기 전자파 송수신수단에 전기적으로 연결되는 전자파 발생기(300); 상기 전자파 송수신수단으로 수신되는 전자파의 주파수를 스캔하여 진폭별로 분석하도록 상기 전자파 송수신수단에 전기적으로 연결되는 주파수 분석기(400); 및 상기 전자파 발생기(300) 및 주파수 분석기(400)에 인터페이스 장치(610)로 연결되어 상기 전자파의 주파수별 송출을 지령하고, 분석된 전자파의 주파수와 상기 전자밀도의 상관관계를 연산으로 도출하는 컴퓨터(600);를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치
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제 1항에 있어서, 상기 전자파 송수신수단은, 상기 전자파 발생기(300)에 전기적으로 연결되는 제 1도파관(210) 및 상기 제 1도파관(210)과 병설되고 상기 주파수 분석기(400)에 전기적으로 연결되는 제 2도파관(220)과, 상기 제 1도파관(210)의 일단에 동축선상으로 연결되어 전자파를 방사하는 송신안테나(210a) 및 상기 제 2도파관(220)의 일단에 동축선상으로 연결되어 전자파를 수신하는 수신안테나(220a)를 포함하는 구조의 주파수 탐침기(200)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치
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제 2항에 있어서, 상기 주파수 탐침기(200)에는, 상기 주파수 탐침기(200)가 상기 챔버(100) 내에서 이송되도록 타측에 동축선상으로 결합되는 이동로드(510a)와, 상기 이동로드(510a)의 이동이 강제될 수 있도록 결합되는 유압실린더(510) 및 상기 주파수 분석기(400)에 연동하여 상기 유압실린더(510)에 유압이 공급되도록 상기 유압실린더(510)에 배관되며 전원공급회로가 상기 인터페이스 장치(610)로 상기 컴퓨터(600)에 연결되는 유압공급기(520)를 포함하는 이송부(500)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치
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제 2항에 있어서, 상기 주파수 탐침기(200)에는, 상기 각 도파관(210,220)에 단일 외장되는 유전체 튜브(230)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치
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제 2항에 있어서, 상기 주파수 탐침기(200)에는, 상기 각 도파관(210,220)에 단일 외장되는 유전체 튜브(230)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치
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