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일련되는 주파수 대역의 전자파가 연속 송출되는 전자파 발생기; 송출되는 상기 전자파의 주파수가 플라즈마의 전자밀도 및 전자온도에 대해 상관 관계를 갖도록 반응용기 내의 플라즈마에 접속되고 상기 전자파 발생기에 전기적으로 연결되어 전자파를 송출하는 전자파 송수신기; 상기 전자파 송수신기로부터 수신되는 전자파의 주파수를 분석하도록 상기 전자파 송수신기에 전기적으로 연결되는 주파수 분석기; 및상기 전자파의 주파수 대역별 송출 지령과, 상기 분석 데이터에 기초한 상기 전자밀도 및 전자온도와 당해 각 전자파의 상관 관계 연산을 위해 상기 전자파 발생기 및 주파수 분석기에 전기적으로 연결되는 컴퓨터;를 포함하여 구성하되, 상기 전자파 송수신기는, 상기 전자파 발생기 및 주파수 분석기에 각각 전기적으로 연결되고 서로 병설되는 제 1동축케이블 및 제 2동축케이블과, 전자파의 송/수신을 위해 상기 제 1동축케이블 및 제 2동축케이블의 일단에 동일 축선상으로 각각 연결/돌출되어 상기 플라즈마에 접속되는 송신안테나 및 수신안테나를 포함하여 구성되는 것에 있어서, 상기 각 동축케이블에는 소정두께로 외장/차폐되는 유전체 피복층이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 장치
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일련되는 주파수 대역의 전자파가 연속 송출되는 전자파 발생기; 송출되는 상기 전자파의 주파수가 플라즈마의 전자밀도 및 전자온도에 대해 상관 관계를 갖도록 반응용기 내의 플라즈마에 접속되고 상기 전자파 발생기에 전기적으로 연결되어 전자파를 송출하는 전자파 송수신기; 상기 전자파 송수신기로부터 수신되는 전자파의 주파수를 분석하도록 상기 전자파 송수신기에 전기적으로 연결되는 주파수 분석기; 및상기 전자파의 주파수 대역별 송출 지령과, 상기 분석 데이터에 기초한 상기 전자밀도 및 전자온도와 당해 각 전자파의 상관 관계 연산을 위해 상기 전자파 발생기 및 주파수 분석기에 전기적으로 연결되는 컴퓨터;를 포함하여 구성된 것에 있어서, 상기 전자파 송수신기가 상기 반응용기 내에서 선택적으로 이송될 수 있도록 상기 전자파 송수신기의 타측에 연결되는 이송기가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 장치
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제 4항에 있어서, 상기 이송기는 스텝핑 모터로 구동되는 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 장치
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제 4항에 있어서, 상기 이송기는 유압실린더로 구동되는 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 장치
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제 5항 또는 제 6항에 있어서, 상기 전자파 송수신기는, 상기 반응용기의 반경방향을 따라 설치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 장치
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일련되는 주파수 대역의 전자파가 연속 송출되는 전자파 발생기; 송출되는 상기 전자파의 주파수가 플라즈마의 전자밀도 및 전자온도에 대해 상관 관계를 갖도록 반응용기 내의 플라즈마에 접속되고 상기 전자파 발생기에 전기적으로 연결되어 전자파를 송출하는 전자파 송수신기; 상기 전자파 송수신기로부터 수신되는 전자파의 주파수를 분석하도록 상기 전자파 송수신기에 전기적으로 연결되는 주파수 분석기; 및 상기 전자파의 주파수 대역별 송출 지령과, 상기 분석 데이터에 기초한 상기 전자밀도 및 전자온도와 당해 각 전자파의 상관 관계 연산을 위해 상기 전자파 발생기 및 주파수 분석기에 전기적으로 연결되는 컴퓨터;를 포함한 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 방법에 있어서,상기 전자파 발생기에서 소정 주파수의 전자파를 송신안테나로 인가하는 1단계;상기 송신안테나에서 방출된 전자파를 수신안테나가 수신하여 주파수를 분석하는 2단계;주파수 분석에 의해 컷오프 주파수를 측정하는 3단계;컷오프 주파수를 이용하여 플라즈마 밀도를 계산하는 4단계;전자파 발생장치에서 전자파를 송신하고 송신안테나로 되돌아오는 반사파를 모니터하여 표면파 흡수 주파수를 측정하는 5단계;상기 4단계 및 5단계에서 구해진 플라즈마 밀도와 흡수주파수를 이용하여 전자온도를 계산하는 6단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 방법
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제 8항에 있어서,상기 4단계의 플라즈마 밀도(ωpe)는 ωpe = [nee2/ε0me]1/2 로 이루어지는 수학식에 의해 구해지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 방법
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제 8항에 있어서,상기 6단계의 전자온도(Te)는,Te = [1-[ωpe/ω]2]= {Km(βa)Im'(βa)Km(βb) - Km'(βa)Im(βb)}/{ Km'(βa)Im(βa)Km(βb) - Km(βa)Im(βb) }(Km 과 Im 은 modified Bessel function, β=2π/λ, λ=2ℓ, ℓ는 송신안테나의 길이, a는 송신안테나의 금속부의 중심부터 피복체(sheath) 경계까지의 반경, b는 송신안테나의 금속부의 반경, ω는 흡수주파수, ωpe 는 플라즈마 밀도) 로 이루어지는 수식에 의해 구해지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전자밀도 및 전자온도 모니터링 방법
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