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탄소나노튜브의 밀도제어방법과 탄소나노튜브로 만들어진박막의 전기전도율제어방법

  • 기술번호 : KST2015179415
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판위에 올려진 탄소나노튜브의 밀도와 탄소나노튜브로 만들어진 박막의 전기전도율을 제어하는 방법에 관한 것으로서, 여러 번의 스핀코팅으로 기판의 넓은 면에 올리는 방법으로 건조시켜서 밀도와 전기전도율을 증가시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 밀도 및 전기전도율을 제어하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 탄소나노튜브의 밀도 제어방법은 탄소나노튜브가 분산된 현탁액을 기판위에 스핀코팅하는 단계(S10)와; 상기 스핀코팅된 탄소나노튜브 현탁액을 기판위에서 건조시키는 단계(S20)와; 탄소나노튜브의 밀도를 측정하여 요구되는 소정의 밀도와 비교하는 단계(S30) 및; 요구되는 소정의 밀도를 얻을 때까지 스핀코팅을 반복 수행하는 단계(S40)를 포함하는 것을 특징으로 한다.탄소나노튜브, 스핀 코팅
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/208 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC H01L 21/02697(2013.01) H01L 21/02697(2013.01)
출원번호/일자 1020070054697 (2007.06.04)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0867628-0000 (2008.11.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081110) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.04)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 구자용 대한민국 대전 유성구
2 지승묵 대한민국 강원 춘천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김문종 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)
2 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2007-0408431-67
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.03.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0011964-78
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0218017-03
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2008-0434538-32
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.06.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0434537-97
7 등록결정서
Decision to grant
2008.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0435415-40
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
탄소나노튜브가 분산된 현탁액(11)을 기판(20)위에 스핀코팅하는 단계(S10)와;상기 스핀코팅된 탄소나노튜브 현탁액(11)을 상기 기판(20)위에서 건조시키는 단계(S20)와; 상기 탄소나노튜브의 밀도를 측정하여 요구되는 밀도와 비교하는 단계(S30)와; 요구되는 밀도를 얻을 때까지 상기 스핀코팅을 반복수행하는 단계(S40);를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 밀도제어 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 현탁액(11)은 상기 탄소나노튜브가 고르게 분산되고, 상기 탄소나노튜브의 입자 직경이 20nm ~ 1nm 인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 밀도제어 방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 현탁액(11)은 상기 탄소나노튜브를 용질로 하고, 디클로에탄을 용매로 하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 밀도제어방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 스핀코팅장치는 상기 기판(20)의 회전속도가 4000rpm내지 5000rpm인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 밀도제어방법
5 5
탄소나노튜브가 분산된 현탁액(11)을 상기 기판(20)위에 스핀코팅하는 단계 (S50)와;상기 스핀코팅된 탄소나노튜브 현탁액(11)을 상기 기판(20)위에서 건조시키는 단계(S60)와;상기 탄소나노튜브로 이루어진 박막의 전기전도율을 측정하여 요구되는 전기 전도율과 비교하는 단계(S70)와;요구되는 전기전도율을 얻을 때까지 상기 스핀코팅을 반복수행하는 단계(S80)를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 박막의 전기전도율 제어방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.