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포토 마스크의 수리장치 및 이를 이용한 수리방법

  • 기술번호 : KST2015179478
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토 마스크 수리방법을 개시한다. 수리용 원자현미경 탐침이 포토 마스크의 결함 부분에 위치하도록 하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침을 왕복 동작시키는 것에 의하여 상기 포토 마스크의 결함 부분을 제거하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침에 의한 상기 포토 마스크의 수리 과정을 전자현미경으로 관찰하고, 그리고 상기 수리용 원자현미경 탐침과는 다른 관측용 원자현미경 탐침을 사용하여 수리 후의 상기 포토 마스크의 형상을 인-시츄(in-situ)로 확인한다.포토 마스크, 수리, 원자현미경
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020080009662 (2008.01.30)
출원인 한국표준과학연구원, (주)나노포커스
등록번호/일자 10-0873154-0000 (2008.12.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.30)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
2 (주)나노포커스 대한민국 서울특별시 구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박병천 대한민국 대전 유성구
2 안상정 대한민국 대전 유성구
3 최진호 대한민국 인천 남구
4 유준 대한민국 서울 강남구
5 홍재완 대한민국 서울 동작구
6 송원영 대한민국 인천 서구
7 정기영 대한민국 서울 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
2 (주)나노포커스 대한민국 서울특별시 구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2008-0078952-70
2 보정요구서
Request for Amendment		 2008.02.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0016519-75
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2008-0119579-48
4 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2008.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0452961-54
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.08.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.09.09 수리 (Accepted) 9-1-2008-0054164-11
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0473840-11
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0778791-45
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.11.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0778790-00
10 보정요구서
Request for Amendment		 2008.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0127561-53
11 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2008.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0798037-17
12 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0603735-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.07 수리 (Accepted) 4-1-2013-0002390-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
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번호 청구항
1 1
포토 마스크의 결함 부분을 수리하기 위한 수리용 원자현미경;상기 수리용 원자현미경이 상기 포토 마스크의 결함 부분에 위치하도록 가이드하고, 상기 수리용 원자현미경에 의한 상기 포토 마스크의 수리 과정을 관찰하기 위한 전자 현미경; 및수리 후의 상기 포토 마스크의 형상을 인-시츄(in-situ)로 이미징하기 위한 이미징용 원자현미경을 포함하는 포토 마스크 수리장치
2 2
청구항 1에 있어서,상기 전자 현미경의 전자총의 입사각을 조절하기 위한 전자총 입사각 조절부를 더 포함하는 포토 마스크 수리장치
3 3
청구항 1에 있어서,상기 수리용 원자현미경의 탐침의 마모에 따라, 상기 수리용 원자현미경의 탐침을 다른 탐침으로 교체하기 위하여, 상기 다른 탐침을 로딩할 수 있는 교체용 탐침 로딩부를 더 포함하는 포토 마스크 수리장치
4 4
청구항 1에 있어서,상기 수리용 원자현미경의 탐침의 상기 포토 마스크로의 접근을 관찰하기 위한 광학 현미경을 더 포함하는 포토 마스크 수리장치
5 5
청구항 1에 있어서,상기 수리용 원자현미경의 탐침에 의한 상기 포토 마스크의 수리을 보조하기 위한 이온 빔 장치를 더 포함하는 포토 마스크 수리장치
6 6
수리용 원자현미경 탐침이 포토 마스크의 결함 부분에 위치하도록 하고;상기 수리용 원자현미경 탐침을 왕복 동작시키는 것에 의하여, 상기 포토 마스크의 결함 부분을 제거하고;상기 수리용 원자현미경 탐침에 의한 상기 포토 마스크의 수리 과정을 전자현미경으로 관찰하고; 그리고상기 수리용 원자현미경 탐침과는 다른 이미징용 원자현미경 탐침을 사용하여, 수리 후의 상기 포토 마스크의 형상을 인-시츄(in-situ)로 이미징하는 것을 포함하는 포토 마스크 수리방법
7 7
청구항 6에 있어서,상기 포토 마스크의 결함 부분을 제거하기 전에, 상기 수리용 원자현미경 탐침 또는 상기 이미징용 원자현미경 탐침을 사용하여, 상기 포토 마스크의 결함 부분을 이미징하는 것을 더 포함하는 포토 마스크 수리방법
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1 CN101925977 CN 중국 FAMILY
2 JP23510353 JP 일본 FAMILY
3 US08153338 US 미국 FAMILY
4 US20110027698 US 미국 FAMILY
5 WO2009096728 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
6 WO2009096728 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN101925977 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN101925977 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2011510353 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP2011510353 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2011027698 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US8153338 US 미국 DOCDBFAMILY
7 WO2009096728 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
8 WO2009096728 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과기부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 AFM 리소그래피용 전동성 나노튜브 탐침 개발