맞춤기술찾기

이전대상기술

촉각센서와 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015179481
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 외부로부터 촉각센서에 작용하는 작용힘(Fin)의 크기가 작은 경우에도, 작용힘(Fin)을 감지할 수 있는 측정 감도가 우수하고 소형화된 촉각센서를 제공함과 동시에, 제조공정이 단순화되어 제조비용, 제조시간의 감소와 생산성의 향상에 기여할 수 있는 촉각센서의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 구체적 수단으로서 촉각센서는 소정의 두께를 갖는 제1고분자 층(101)과; 제1고분자 층(101)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제1전도층(104)과; 제1전도층(104) 위에 형성되고, 작용힘(Fin)의 변화에 따라 저항값이 변화되는 저항체(105);로 구성된 제1구조체(100); 및 소정의 두께를 갖는 제2고분자 층(201)과; 제2고분자 층(201)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제2전도층(204);으로 구성된 제2구조체(200);을 포함하고, 제1구조체(100)와 상기 제2구조체는 저항체(105)를 중심으로 결합된 것을 특징으로 한다. 촉각센서, 작용힘(Fin), 저항체
Int. CL H01L 29/84 (2006.01)
CPC G01L 5/228(2013.01) G01L 5/228(2013.01) G01L 5/228(2013.01)
출원번호/일자 1020080046323 (2008.05.19)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0997108-0000 (2010.11.23)
공개번호/일자 10-2009-0120342 (2009.11.24) 문서열기
공고번호/일자 (20101129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.19)
심사청구항수 21

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김종호 대한민국 대전광역시 서구
2 강대임 대한민국 대전 유성구
3 박연규 대한민국 대전 유성구
4 김민석 대한민국 대전 서구
5 최재혁 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김문종 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)
2 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0353974-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.02.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0011295-90
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0180122-12
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.06.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0379180-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0379181-60
7 등록결정서
Decision to grant
2010.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0489879-68
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소정의 두께를 갖는 제1고분자 층(101)과; 상기 제1고분자 층(101)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제1전도층(104)과; 상기 제1전도층(104) 위에 형성되고, 작용힘(Fin)의 변화에 따라 저항값이 변화되는 저항체(105);로 구성된 제1구조체(100); 및 소정의 두께를 갖는 제2고분자 층(201)과; 상기 제2고분자 층(201)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제2전도층(204);으로 구성된 제2구조체(200);을 포함하고, 상기 제1구조체(100)와 상기 제2구조체는 상기 저항체(105)를 중심으로 결합된 것에 있어서, 상기 제1고분자 층(101)과 상기 제1전도층(104) 사이에, 상기 제1고분자 층에 적층된 제1접지층(102); 및 상기 제1접지층(102)과 상기 제1전도층(104) 사이에 고분자 층(103);을 포함한 것을 특징으로 하는 촉각센서
2 2
제 1항에 있어서, 상기 제1고분자 층(101) 또는 상기 제2고분자 층(201)은 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 촉각센서
3 3
제 1항에 있어서, 상기 제2전도층(204) 상에는 작용힘(Fin)의 변화에 따라 저항값이 변화하는 저항체(205)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 촉각센서
4 4
제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 저항체(105,205)의 폭은 상기 제1전도층(104) 또는 상기 제2전도층(204)의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 촉각센서
5 5
제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 저항체(105,205)의 둘레에는 스페이서(300)가 더 구비된 것을 특징으로 하는 촉각센서
6 6
제 5항에 있어서, 상기 스페이서(300)의 두께값에서 상기 저항체(105,205)의 두께값을 뺀 결과값은 0~50㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서
7 7
제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 저항체(105,205)는 압력가변 저항재료로 구성된 것을 특징으로 하는 촉각센서
8 8
삭제
9 9
제 1항에 있어서, 상기 제2고분자 층(201)과 상기 제2전도층(204) 사이에, 상기 제2고분자 층(201)에 적층된 제2접지층(202); 및 상기 제2접지층(202)과 상기 제2전도층(204) 사이에 고분자 층(203);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서
10 10
제 9항에 있어서, 상기 고분자 층(103,203)은 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 촉각센서
11 11
제1항에 있어서, 사용자가 인가하는 작용힘(Fin)을 전압값(Vout)으로 검출할 수 있는 소정의 회로층이 더 포함되고, 상기 검출되는 전압값(Vout)은 다음의 [수학식 1]에 의한 것을 특징으로 하는 촉각센서
12 12
제1항에 있어서, 사용자가 인가하는 작용힘(Fin)을 전압값(Vout)으로 검출할 수 있는 소정의 회로층이 더 포함되고, 상기 검출되는 전압값(Vout)은 다음의 [수학식 2]에 의한 것을 특징으로 하는 촉각센서
13 13
제 1항에 있어서, 사용자가 인가하는 작용힘(Fin)을 전압값(Vout)으로 검출할 수 있는 소정의 회로층이 더 포함되고, 상기 검출되는 전압값(Vout)은 다음의 [수학식 3]에 의한 것을 특징으로 하는 촉각센서
14 14
제 13항에 있어서, 상기의 회로층이 반전증폭기와 등가를 이루는 경우, -Vcc 는 0 [V] 이고, 상기의 +Vcc는 Vi003c#Vg003c#+Vcc 의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 촉각센서
15 15
소정의 두께를 갖는 고분자 층(401) 상에 금속을 증착하여 소정의 신호선을 갖는 전도층(404)을 형성하는 전도층형성단계(S13); 및 상기 전도층(404)의 부식을 방지하기 위하여 도금하는 도금단계(S14);를 포함하는 구조체형성단계로부터 복수개의 구조체를 형성하는 단계(S10); 상기 복수 개의 구조체(400) 중 하나인 제1구조체(100)의 전도층(104) 상에 저항체(405)를 형성하는 저항체형성단계(S20): 및 상기 제1구조체(100) 및 상기 복수개의 구조체(400)중 다른 하나인 제2구조체(200)가 상기 저항체(405)를 중심으로 결합되도록 접착층(500)을 형성하여 본딩하는 결합단계(S30);를 포함하되 상기 전도층형성단계(S13)에 앞서, 상기 소정의 두께를 갖는 고분자 층(401) 상에 접지층(402)을 형성하는 접지층형성단계(S11); 및 상기 접지층(402) 위에 고분자 층(403)을 형성하는 고분자 층형성단계(S12);가 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
16 16
삭제
17 17
제 15항에 있어서, 상기 도금단계(S14)는 구리, 금 및 은 중 적어도 어느 하나로 도금하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
18 18
제 15항에 있어서, 상기 저항체형성단계(S20) 및 상기 결합단계(S30) 사이에는, 상기 제2구조체(200)의 전도층(204)에 저항체(405')를 형성하는 저항체부가형성단계(S25);가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
19 19
제 15항 또는 제 18항에 있어서, 상기 저항체(405,405')는 전자빔 리소그래피, 포토리소그래피 또는 스퍼터 방식으로 증착한 후 에칭하여 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
20 20
제 15항 또는 제 18항에 있어서, 상기 저항체(405,405')는 압력가변 저항재료를 스크린 인쇄법을 이용하여 도포하는 방식으로 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
21 21
제 15항에 있어서, 상기 저항체 형성단계(S20)이전에, 상기 저항체(405,405')의 주위에 스페이서(300)를 형성하는 스페이서 형성단계(S19);가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
22 22
제 15항에 있어서, 상기 전도층(404)은 이-빔, 스퍼터 장비 또는 도금장비를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
23 23
제 15항에 있어서, 상기 결합단계(S30)에서 접착층(500)은 경화제가 포함된 접착제, 양면 테이프 또는 필름 접착용 열접착 테이프인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.