맞춤기술찾기

이전대상기술

광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어방법 및 제어장치

  • 기술번호 : KST2015179530
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기존의 뛰어난 가공 정밀도를 갖고 있는 펨토초 및 피코초 등 초고속 레이저 초미세 공정 기술의 한계이었던 테이퍼(taper) 혹은 원뿔형태의 가공 단면 형성 및 이에 의한 광학적인 반사율 증가 및 단면에 의한 레이저 광의 흡수유발 현상 등 한계점을 극복하고자 하는 기술에 관한 것으로 본 발명에 의한 물질의 비선형 광학현상 중 하나인 광유발 과도흡수 현상을 이용한 레이저 가공방법은 공정 단면 제어 효과를 극대화하기 위하여 레이저의 파장을 공정 대상 물질의 적절하게 제어 및 초고속레이저 펄스 자체 혹은 초고속레이저 펄스와 다른 레이저 펄스를 동기화하여 공정대상 물질을 과도적인 광흡수를 최적화하여 레이저 흡수과정을 공간적으로 제어함으로써 궁극적으로 가공단면을 변화시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 나노초 레이저 등 기존의 상용화된 레이저 혹은 상용화된 초고속 레이저의 파장을 과도흡수에 의한 제어가 극대화되도록 파장을 바꾸거나 혹은 초고속 레이저 자체 혹은 하나이상의 다른 레이저를 시간-공간상으로 동기화를 함으로써 공정 대상 물질의 과도 흡수를 유발함으로써 종래의 초고속 레이저 미세가공기술이 가지고 있는 가공 단면을 공정목적에 최적화하도록 제어가능하게 고안되었다. 초고속 레이저 미세가공, 공정단면, 과도흡수유발
Int. CL B23K 26/00 (2014.01) B23K 26/18 (2014.01)
CPC H01S 3/101(2013.01) H01S 3/101(2013.01)
출원번호/일자 1020080118557 (2008.11.27)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1064352-0000 (2011.09.05)
공개번호/일자 10-2010-0060110 (2010.06.07) 문서열기
공고번호/일자 (20110914) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.27)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정세채 대한민국 대전광역시 유성구
2 윤태오 대한민국 충청북도 충주시 교

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0817712-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0055995-51
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0524128-65
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0040581-04
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2011-0040606-57
7 등록결정서
Decision to grant
2011.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0380318-34
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
선형적 흡수에 해당하는 파장의 초고속 레이저 빔을 공정대상 물질에 조사하여 흡수되도록 하고 흡수된 에너지에 의해 공정대상 물질에 존재하는 전자가 다른 에너지 준위로 이동하는 전자 전이를 발생시키는 광유발 과도흡수 현상(Photo-induced transient absorption)을 이용하되, 펄스의 폭이 피코초 이하인 초고속 레이저를 이용하여 공정 대상 물질의 순간적인 광유발 과도 흡수율을 변화시킴으로써 공정 단면의 형상을 제어하고, 공정 단면으로부터 야기되는 공정 단면에 조사된 레이저 빔의 산란과 왜곡을 최소화하여 공정 속도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 초고속 레이저의 자체 펄스를 변화시켜 시간적으로 동기화하고 시간적으로 동기화된 빔을 공간적 동기화하여 가공단면을 변화시키는 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 초고속 레이저의 자체 펄스와 상기 초고속 레이저 펄스보다 긴 다른 레이저의 펄스를 시간적으로 동기화하고 동기화된 빔을 공간적 동기화하여 가공단면을 변화시키는 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어방법
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 다른 레이저의 펄스의 폭은 초고속 레이저 펄스보다 긴 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어방법
5 5
펄스의 폭이 피코초 이하인 초고속 레이저 빔을 발진시키는 초고속 레이저 발진기(10); 초고속 레이저 발진기(10)에 의해 발진된 초고속 레이저 빔을 선형적 흡수에 해당하는 파장의 초고속 레이저 빔으로 변환시켜 물질에 조사되도록 하고 흡수된 에너지에 의해 물질에 존재하는 전자가 다른 에너지 준위로 이동하는 전자 전이를 발생시키는 광유발 과도흡수 현상(Photo-induced transient absorption)이 유발되도록 펄스를 변환시키는 파장 변환기(20); 파장 변환기(20)에 의해 파장이 변환된 빔을 시간적으로 동기화하여 초고속레이저의 공정 속도를 제어하는 전자장치 또는 광릴레이 장치; 상기 전자장치 또는 광릴레이 장치에 의해 시간적으로 동기화된 빔의 초점을 공간적으로 동기화시켜 집속하여 초고속 레이저의 공정단면을 제어하는 집속광학계(30); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정속도 및 공정단면 제어장치
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 초고속 레이저 발진기(10)와 별도로 구비되는 다른 레이저 발진기;가 더 구비되며, 상기 전자장치 또는 광릴레이 장치는 상기 초고속 레이저 발진기(10)에 의해 발진된 초고속 레이저 빔과 상기 다른 레이저 발진기에 의해 발진된 레이저 빔을 시간적으로 동기화시키는 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어장치
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 다른 레이저의 펄스의 폭은 초고속 레이저 펄스보다 긴 것을 특징으로 하는 광유발 과도흡수 현상을 이용한 초고속레이저 공정 속도와 공정단면 제어장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.