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평균 몰 분자량 100 내지 300인 폴리에틸렌글리콜 올리고머(PolyEthylene Glycol oligomer)를 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)하여, 기재에 플라즈마 중합된 폴리에틸렌글리콜 중합체 박막을 형성하며,상기 플라즈마 화학 기상 증착은플라즈마 반응 챔버 외부에 형성되며 상기 반응 챔버를 가열하는 챔버 히팅부; 상기 폴리에틸렌글리콜 올리고머인 전구체를 보관하며 불활성 기체를 공급받아 버블링에 의해 전구체의 기화가 발생하는 전구체 저장부를 가열하는 전구체 히팅부; 및 상기 전구체 저장부에서 버블링되어 기화된 전구체를 상기 반응 챔버에 공급하는 공급 라인을 가열하는 라인 히팅부를 포함하는 플라즈마 화학 기상 증착장치 내에서 수행되며,상기 챔버 히팅부에 의해 상기 반응 챔버가 소정의 온도로 유지되며, 상기 전구체 히팅부에 의해 상기 폴리에틸렌글리콜 올리고머인 전구체를 보관하는 전구체 저장부가 소정의 온도로 유지되며, 상기 라인 히팅부에 의해 기화된 폴리에틸렌글리콜 올리고머를 포함하는 이송기체가 소정의 온도로 유지되는 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 화학 기상 증착의 플라즈마 파워는 1 내지 50W인 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 전구체 저장부의 온도는 100 내지 150℃이며, 상기 공급 라인의 온도는 130 내지 150℃이며, 상기 반응 챔버의 온도는 100 내지 130℃인 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 반응 챔버 내부의 압력은 50 내지 200 mTorr이며, 상기 이송기체는 0
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제 4항에 있어서,상기 플라즈마 파워에 의해 상기 플라즈마 중합된 폴리에틸렌글리콜 박막의 탈이온수 접촉각(contact angle)이 35 내지 70˚로 제어되는 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제조방법은 a) 상기 기재를 상기 반응 챔버에 장입하고 상기 챔버 히팅부에 의해 상기 반응 챔버를 100 내지 130℃로 유지하며, 상기 전구체 히팅부에 의해 상기 전구체 저장부를 100 내지 150℃로 유지하며, 상기 라인 히팅부에 의해 상기 공급 라인을 130 내지 150℃로 유지하며, 진공 펌프에 의해 상기 반응 챔버를 50 내지 200 mTorr로 유지하는 단계;b) 상기 이송가스를 0
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제 1항에 있어서,상기 기재는 단백질 칩 기판, 세포 칩 기판, 카테터(catheter), 스텐트(stent), 인공 심장, 인공 혈관, 인공 뼈, 인공 관절, 인공 장기 또는 체내 이식물(implantation material)인 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 기재는 단백질 칩 기판 또는 세포 칩 기판이며, 상기 기판은 귀금속을 포함한 금속, 유리, 실리콘을 포함한 반도체 또는 유기물인 것을 특징으로 하는 폴리에틸렌글리콜 박막의 제조방법
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