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화학가스에 대한 부품의 내부식 평가방법

  • 기술번호 : KST2015179582
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체를 포함한 정밀기기에 사용되는 부품의 코팅성능을 평가하는 내부식 평가방법에 있어서, 코팅 부품의 시편을 제조하는 과정(P1)과; 제조된 시편의 내전압 및 침식도를 측정하는 1차 내전압 및 침식도 측정과정(P2)과; 화학가스 발생 챔버의 운전조건을 실험환경으로 설정하는 과정(P3)과; 실험환경으로 설정된 챔버에 시편을 안치하고 화학가스에 노출시켜 부식반응이 이루어지도록 하는 내부식 실험과정(P4)과; 상기 부식반응이 종료된 시편의 내전압 및 침식도를 측정하는 2차 내전압 및 침식도 측정과정(P5)과; 상기 측정된 1차 내전압 및 침식도 측정값과 2차 내전압 및 침식도 측정값을 대비하여 결과를 도출하는 내부식 평가과정(P6);을 포함하는 것을 특징으로 하는 내부식 평가방법에 관한 것이다. 화학가스, 내부식, 평가방법, 코팅성능, 반도체
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01)
CPC G01N 17/02(2013.01) G01N 17/02(2013.01)
출원번호/일자 1020090099302 (2009.10.19)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0042573 (2011.04.27) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.19)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤주영 대한민국 서울특별시 양천구
2 강상우 대한민국 대전광역시 유성구
3 신용현 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍승수 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0638728-74
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0220741-26
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0483558-76
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0483571-60
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0696724-35
6 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2011.12.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-1038330-82
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.01.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0031768-15
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체를 포함한 정밀기기에 사용되는 부품의 코팅성능을 평가하는 내부식 평가방법에 있어서, 코팅 부품의 시편을 제조하는 과정과; 제조된 시편의 내전압 및 침식도를 측정하는 1차 내전압 및 침식도 측정과정과; 화학가스 발생 챔버의 운전조건을 실험환경으로 설정하는 과정과; 실험환경으로 설정된 챔버에 시편을 안치하고 화학가스에 노출시켜 부식반응이 이루어지도록 하는 내부식 실험과정과; 상기 부식반응이 종료된 시편의 내전압 및 침식도를 측정하는 2차 내전압 및 침식도 측정과정과; 상기 측정된 1차 내전압 및 침식도 측정값과 2차 내전압 및 침식도 측정값을 대비하여 결과를 도출하는 내부식 평가과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 내부식 평가방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 화학가스 발생 챔버의 운전조건을 실험환경으로 설정하는 과정은 챔버내에 설정하고자 하는 압력을 선택하는 단계와; 화학가스 성분비를 챔버내의 유량과 온도를 조절하여 실험표준값으로 유지시키는 단계와; 화학가스 발생장치의 세기를 조절하여 챔버내의 화학가스 성분비를 선택된 실험표준값과 일치시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 내부식 평가방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업기술개발(산자부) 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 차세대반도체용진공공정의실시간측정/진단/제어기술개발(총괄)