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입자 빔 질량 분석기

  • 기술번호 : KST2015179594
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 입자 빔 질량 분석기를 제공한다. 이 입자 빔 질량 분석기는 가스 유동(gas flow)을 입력받아 가스 유동을 가속하여 입자 빔을 형성하는 공기 역학 렌즈, 열전자를 가속하여 입자 빔을 이온화시키어 하전 입자 빔을 형성하는 전자총, 하전 입자빔을 운동 에너지 대 전하 비(kinetic energy to charge ratio)에 따라 굴절시키는 디플렉터, 및 굴절된 하전 입자 빔에 의한 전류를 측정하는 감지부를 포함한다. 상기 전자총은 입자 빔을 통과시키는 원통 형상의 내부 그물, 상기 내부 그물의 외부에 배치된 원통 형상의 외부 그물, 내부 그물 및 내부 그물의 사이에 배치되어 열전자를 생성하는 필라멘트, 및 외부 그물의 외부에 배치되어 열전자를 구속하는 구속 자기장을 생성하는 자기장 생성부를 포함한다. 전자총, 나노 파티클, 구속 자기장, 집속 자기장, 필라멘트, 입자 빔
Int. CL G01N 27/62 (2006.01) H01J 49/26 (2006.01)
CPC H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01) H01J 49/26(2013.01)
출원번호/일자 1020090091953 (2009.09.28)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1104213-0000 (2012.01.03)
공개번호/일자 10-2011-0034430 (2011.04.05) 문서열기
공고번호/일자 (20120109) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.28)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강상우 대한민국 서울특별시 용산구
2 윤주영 대한민국 서울특별시 양천구
3 신용현 대한민국 대전광역시 유성구
4 김태성 대한민국 경기도 수원시 장안구
5 윤진욱 대한민국 경기도 이천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2009-0595753-63
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.09.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.10.18 수리 (Accepted) 9-1-2010-0065055-48
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0083518-25
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0211636-83
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0211650-12
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.09.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0519180-46
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0804988-81
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0804970-60
10 등록결정서
Decision to grant
2011.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0766845-26
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
가스 유동(gas flow)을 입력받아 상기 가스 유동을 가속하여 입자 빔을 형성하는 공기 역학 렌즈; 열전자를 가속하여 입자 빔을 이온화시키어 하전 입자 빔을 형성하는 전자총; 상기 하전 입자빔을 운동 에너지 대 전하 비(kinetic energy to charge ratio)에 따라 굴절시키는 디플렉터; 및 굴절된 상기 하전 입자 빔에 의한 전류를 측정하는 감지부를 포함하고, 상기 전자총은: 상기 입자 빔을 통과시키는 원통 형상의 내부 그물; 상기 내부 그물의 외부에 배치된 원통 형상의 외부 그물; 상기 내부 그물 및 상기 외부 그물의 사이에 배치되어 상기 열전자를 생성하는 필라멘트; 및 상기 외부 그물의 외부에 배치되어 상기 열전자를 구속하는 구속 자기장을 생성하는 자기장 생성부를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
2 2
제 1항에 있어서, 상기 전자총은: 상기 필라멘트의 일단에 연결된 제1 기둥; 상기 제1 기둥과 이격되어 배치되고 상기 필라멘트의 타단에 연결된 제2 기둥을 더 포함하고, 상기 외부 그물 및 상기 제1 기둥은 음의 제1 전압에 인가되고, 상기 제2 기둥은 음의 제2 전압에 인가되고, 상기 내부 그물은 접지된 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
3 3
제 2항에 있어서, 상기 필라멘트는 복수 개이고 서로 다른 층에 배치되어 루프를 형성하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
4 4
제 1항에 있어서, 상기 전자총은: 상기 필라멘트의 일단이 연결된 상부 와셔; 상기 필라멘트의 타단에 연결되고 상기 상부 와셔와 수직으로 이격되어 배치된 하부 와셔; 상기 상부 와셔를 지지하고 전류를 공급하는 지지 기둥을 더 포함하고, 상기 외부 그물 및 상기 상부 와셔는 음의 제1 전압에 인가되고, 상기 하부 와셔는 음의 제2 전압에 인가되고, 상기 내부 그물은 접지된 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
5 5
제 1항에 있어서, 상기 자기장 생성부는 상기 입자 빔의 진행 방향에 수직한 평면에 구속 자기장을 생성하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
6 6
제 1항에 있어서, 상기 디플렉터와 상기 전자총 사이에 배치되어 상기 전자총으로부터 출력되는 하전 입자 빔을 집속시키어 상기 디플렉터에 입사시키는 집속부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
7 7
제 6항에 있어서, 상기 집속부는 상기 입자 빔의 진행 방향과 평행한 집속 자기장을 생성하고, 상기 집속 자기장의 세기는 상기 디플렉터에서 최대값을 가지는 것을 특징으로 하는 입자 빔 질량 분석기
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1 지식경제부 한국표준과학연구원 전략기술개발사업 첨단산업 진공표준 및 공정진단기술 개발