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투시창을 포함하는 진공 용기;상기 진공 용기의 내부 또는 외부에 배치되어 상기 진공 용기의 내부에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 수단;상기 투시창의 외부에 배치된 전극; 상기 투시창 및 상기 전극을 통과한 상기 플라즈마의 방출광을 수광하는 광학부; 및상기 플라즈마가 발생되는 동안 상기 전극에 음의 전압을 인가하는 전원을 포함하고,상기 전극은 투명전극이고,상기 플라즈마는 상기 진공용기 내에서 공정 진행 또는 공정 모니터링을 위하여 생성되고,상기 플라즈마에 의한 방출광은 상기 광학부에서 분석되어 공정 모니터링을 수행하고,상기 플라즈마는 상기 전극에 의하여 상기 투시창을 충격하여 상기 투시창의 내부 측면에 부착된 부산물을 제거하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 진공 용기는 배기라인을 포함하고,상기 투시창은 배기라인에 배치되는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 진공 용기는 가스를 분배하는 가스 분배수단을 더 포함하고,상기 가스 분배 수단은 플라즈마 발생 수단과 일체화된 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 수단은 DC 전력, AC 전력, RF 전력, 또는 초고주파 전력 중에서 적어도 하나를 공급받는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 진공 용기는 기판 홀더; 및상기 기판 홀더 상에 장착되는 기판을 포함하고,상기 진공 용기는 증착 공정, 식각 공정, 이온 주입 공정, 및 표면 처리 공정 중에서 적어도 하나를 수행하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 장치
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진공 용기에 가스를 공급하고 배기하는 단계;상기 진공용기 내에서 공정 진행 또는 공정 모니터링을 위한 상기 진공 용기 내에 플라즈마를 생성하는 단계; 상기 플라즈마를 생성되는 동안 상기 진공 용기에 배치된 투시창의 외부 측면에 배치된 투명 전극에 음의 전압을 인가하여 상기 플라즈마는 상기 투명 전극에 의하여 상기 투시창을 충격하여 상기 투시창의 내부 측면에 부착된 부산물을 제거하는 단계; 및상기 투시창 및 상기 투명 전극을 통과한 상기 플라즈마의 방출광을 분석하여 공정 모니터링을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 방법
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제8 항에 있어서,상기 진공 용기는 배기라인을 포함하고,상기 투시창은 배기라인에 배치되는 것을 특징으로 하는 공정 모니터링 방법
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