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전기 스프레이 방법을 이용한 무기 또는 유기물질의 고진공 증착 시스템

  • 기술번호 : KST2015179669
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전기 스프레이 방법을 이용한 무기 또는 유기물질의 고진공 증착 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 고진공 증착 시스템은 증착 대상 무기 또는 유기물질을 수용 및 분사시키기 위한 하나 이상의 분사체와 하나 이상의 증착 대상 기재가 대체로 서로 마주보도록 배치되어 있는 챔버; 및 상기 분사체로부터 분사되는 증착 대상 무기 또는 유기물질을 전기적으로 분사시키기 위한 고전압 전원장치;를 포함하며, 상기 분사체로부터의 무기 또는 유기물질 분사 방향에 대하여 반대 방향으로 질소 기체 흐름이 형성되게 구성되어 있다. 본 발명에 의하면, 생성되는 박막의 특성을 임의로 향상시킬 수 있으며, 다양한 용액의 적용을 가능하게 한다.
Int. CL C23C 16/453 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/18 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01)
CPC B05D 1/02(2013.01) B05D 1/02(2013.01) B05D 1/02(2013.01) B05D 1/02(2013.01) B05D 1/02(2013.01) B05D 1/02(2013.01)
출원번호/일자 1020100093560 (2010.09.28)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0032114 (2012.04.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 포기
심사진행상태 포기
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.09.28)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이연진 대한민국 대전광역시 유성구
2 김현성 대한민국 경기도 시흥시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.09.28 포기 (Abandonment) 1-1-2010-0622163-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.10.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2011-0088424-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0449203-78
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0776068-34
6 [특허 등 절차 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)
2012.09.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0785343-07
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
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번호 청구항
1 1
증착 대상 유기 물질을 수용 및 분사시키기 위한 하나 이상의 분사체와 하나 이상의 증착 대상 기재가 대체로 서로 마주보도록 배치되어 있는 챔버; 및상기 분사체로부터 분사되는 증착 대상 무기 또는 유기물질을 전기적으로 분사시키기 위한 고전압 전원장치;를 포함하며,상기 분사체로부터의 무기 또는 유기물질 분사 방향에 대하여 반대 방향으로 질소 기체 흐름이 형성되게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
2 2
제 1항에 있어서, 상기 증착 대상 물질 분사 기구로부터의 증착 대상 물질을 분사 경로 중에 가열시키기 위한 가열기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 증착 대상 유기물질이 고분자 유기 물질 또는 저분자 유기 물질 또는 이들의 혼합 물질인 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
4 4
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 고전압 전원장치에 의해 1 내지 5kV의 전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
5 5
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 고진공 증착 시스템이 차등적 배기 구조를 가지며, 유기물질 분사 방향으로 점증적으로 진공도가 높은 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
6 6
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 증착 대상 물질과 용매가 인가되는 전압, 가열기구로부터의 온도 제어 및 차등 배기 구조의 조합에 의해 조절 분리되는 것을 특징으로 하는 고진공 증착 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과기부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업(특정연구개발사업) Electrospray를 이용한 폴리머 태양전지 광활성층 표면/계면 전자구조 연구