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고온 반투명 또는 투명시료의 복사율, 투과율, 반사율 특성 동시 측정 방법

  • 기술번호 : KST2015179749
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일실시예에 따른 고온 반투명 또는 투명시료의 복사율, 투과율, 반사율 특성 동시 측정 방법은, 흑체의 복사량(Lb)에 의거하여 실험장치의 민감도(R)를 산출하는 단계; 고복사율을 가지는 기판 물질(A)의 복사율(εA) 및 저복사율을 가지는 기판 물질(B)의 복사율(εB)을 산출하는 단계; 상기 고복사율을 가지는 기판 물질(A)을 반투명 또는 투명시료의 뒷면에 위치하게 하여 소정 온도(T)에서의 반투명 또는 투명시료의 복사량(SA)을 산출하는 단계; 상기 저복사율을 가지는 기판 물질(B)을 상기 반투명 또는 투명시료의 뒷면에 위치하게 하여 상기 소정 온도(T)에서의 반투명 또는 투명시료의 복사량(SB)을 산출하는 단계; 상기 산출된 상기 실험장치의 민감도(R), 상기 고복사율 기판 물질(A)의 복사율(εA), 상기 저복사율 기판 물질(B)의 복사율(εB), 상기 고복사율 기판 물질(A)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사량(SA), 및 상기 저복사율 기판 물질(B)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사량(SB)를 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 투과율(tS)을 산출하는 단계; 상기 산출된 상기 투과율(tS)을 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 복사율(εS)을 산출하는 단계; 및 상기 산출된 상기 투과율(tS) 및 상기 복사율(εS)을 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 반사율(rS)을 산출하는 단계를 포함한다.광학적 특성, 고온 반사율, 고온 투과율, 고온 복사율, 고온 코팅재, 고온 반투명시료, 고온 투명시료, 복사열, 적외선, 흑체, 기판, 고반사율 기판, 저반사율 기판, 고복사율 기판, 저복사율 기판, 접촉식 가열법
Int. CL G01J 5/08 (2006.01)
CPC G01J 5/0815(2013.01) G01J 5/0815(2013.01) G01J 5/0815(2013.01)
출원번호/일자 1020090118888 (2009.12.03)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1113046-0000 (2012.01.31)
공개번호/일자 10-2011-0062230 (2011.06.10) 문서열기
공고번호/일자 (20120227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.03)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이근우 대한민국 대전광역시 유성구
2 전상호 대한민국 대전광역시 서구
3 박승남 대한민국 대전광역시 유성구
4 유용심 대한민국 대전광역시 유성구
5 박철웅 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.03 수리 (Accepted) 1-1-2009-0746410-16
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0166685-11
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0404790-77
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.05.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0405069-44
5 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0707653-40
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
흑체의 복사량(Lb)에 의거하여 실험장치의 민감도(R)를 산출하는 단계;소정 온도(T*)에서 고복사율을 가지는 기판 물질(A)의 복사율(εA) 및 저복사율을 가지는 기판 물질(B)의 복사율(εB)을 산출하는 단계;상기 고복사율을 가지는 기판 물질(A)을 반투명 또는 투명시료의 뒷면에 위치하게 하여 소정 온도(T)에서의 반투명 또는 투명시료의 복사 신호(SA)을 산출하는 단계;상기 저복사율을 가지는 기판 물질(B)을 상기 반투명 또는 투명시료의 뒷면에 위치하게 하여 상기 소정 온도(T)에서의 반투명 또는 투명시료의 복사 신호(SB)을 산출하는 단계;상기 산출된 상기 실험장치의 민감도(R),상기 고복사율 기판 물질(A)의 복사율(εA), 상기 저복사율 기판 물질(B)의 복사율(εB), 상기 고복사율 기판 물질(A)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사 신호(SA),및 상기 저복사율 기판 물질(B)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사 신호(SB)를 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 투과율(tS)을 산출하는 단계;상기 산출된 상기 투과율(tS)을 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 복사율(εS)을 산출하는 단계; 및상기 산출된 상기 투과율(tS)및 상기 복사율(εS)을 이용하여 상기 반투명 또는 투명시료의 반사율(rS)을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
2 2
제1항에 있어서,고온을 h, 저온을 c라 하는 경우, 상기 실험장치의 민감도(R)는, 이고 여기서, TC는 저온의 온도, Th는 고온의 온도, Sh는 고온에서의 흑체의 복사 신호, SC는 저온에서의 흑체의 복사 신호, Lb는 해당 온도에서의 플랑크 복사량을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 고복사율을 가지는 기판 물질(A)은 검정색 페인트를 칠한 기판을 포함하고 상기 저복사율을 가지는 기판 물질(B)은 금 도금을 한 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 소정 온도(T*)에서 흑체의 복사량을 L*, 배경복사량을 LO, 소정 주변 온도(Tsur)에서 주변복사량을 Lsur이라 할 경우, 상기 고복사율 기판 물질(A)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사량(SSA)은, 이고여기서, R은 상기 실험장치의 민감도, εs는 상기 반투명 또는 투명시료의 복사율, Lb는 상기 흑체의 복사량, tS는 상기 반투명 또는 투명시료의 투과율, εA는 상기 소정 온도(T*)에서 고복사율 기판 물질(A)의 복사율을 의미하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 소정 온도(T*)에서 흑체의 복사량을 L*, 배경복사량을 LO, 소정 주변 온도(Tsur)에서 주변복사량을 Lsur이라 할 경우, 상기 저복사율 기판 물질(B)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사량(SSB)은, 이고여기서, R은 상기 실험장치의 민감도, εs는 상기 반투명 또는 투명시료의 복사율, Lb는 상기 흑체의 복사량, tS는 상기 반투명 또는 투명시료의 투과율, εB는 상기 소정 온도(T*)에서 저복사율 기판 물질(B)의 복사율을 의미하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 반투명 또는 투명시료의 투과율(tS)은, 상기 고복사율 기판 물질(A)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사신호(SA)및 상기 저복사율 기판 물질(B)에 대한 상기 소정 온도(T)에서의 시료의 복사신호(SB)의 두 식을 연립하여 산출하고 이며여기서, R은 상기 실험장치의 민감도, εA는 상기 소정 온도(T*) 에서상기 고복사율 기판 물질(A)의 복사율, L*는 상기 소정 온도(T*)에서 상기 흑체의 복사량, εB는 상기 소정 온도(T*)에서 상기 저복사율 기판 물질(B)의 복사율을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 반투명 또는 투명시료의 복사율(εS)은, 이고여기서, S는 상기 고복사율 기판 물질(A)에 대한 상기 소정 온도(T)에서 시료의 복사 신호, Sh는 고온에서의 상기 흑체의 복사 신호, SC는 저온에서의 상기 흑체의 복사 신호, TC는 저온의 온도, Th는 고온의 온도, Tsur는 주변의 온도, Lsur는 주변 복사량, Lb는 상기 흑체의 복사량, tS는 상기 반투명 또는 투명시료의 투과율, εA는 상기 소정 온도(T*)에서 고복사율 기판 물질(A)의 복사율, L*는 상기 소정 온도(T*)에서 흑체의 복사량을 의미하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 반투명 또는 투명시료의 반사율(rS)은, 키르히호프의 법칙(Kirchhoff''s Law)에 따라 인 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 반투명 또는 투명시료는 실리콘 내마모성 코팅(wear coating)을 위한 알루미늄 옥사이드(Al2O3), 산화 마그네슘(MgO), 및 실리콘 옥사이드(SiO2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반투명 또는 투명시료의 광학적 특성 측정 방법
10 10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.