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박막 두께 측정방법

  • 기술번호 : KST2015179764
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 박막 두께 측정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 박막을 세정 및 가열한 후에 표면 오염층을 고려한 층구조 모델을 적용하고 X-선 반사율 측정법을 이용하는 박막 두께 측정방법에 대한 것이다. 이를 위해 본 발명은 박막이 형성된 기판을 세정하는 단계와; 상기 세정된 기판을 가열 후 공기 중에서 냉각하는 단계와; 상기 냉각된 기판에 X-선 입사각도에 따른 반사율(X-ray reflectivity; XRR)의 변화를 측정하여 제1 반사율곡선을 측정하는 단계와; 상기 제1 반사율곡선과 상기 박막의 오염층을 고려하는 층구조 모델을 이용하여 상기 박막의 두께를 도출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법을 제공한다. X-선 반사율, 층구조 모델, 오염층, 박막 두께, 게이트 산화막
Int. CL G01B 15/02 (2006.01)
CPC G01B 15/02(2013.01) G01B 15/02(2013.01) G01B 15/02(2013.01)
출원번호/일자 1020080000446 (2008.01.02)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0912459-0000 (2009.08.10)
공개번호/일자 10-2009-0074604 (2009.07.07) 문서열기
공고번호/일자 (20090814) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.02)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창수 대한민국 대전시 유성구
2 박재환 대한민국 경기도 이천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2008-0002767-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0028612-44
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0231399-13
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.06.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0355011-42
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2009-0355010-07
7 등록결정서
Decision to grant
2009.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0318933-57
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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박막이 형성된 기판을 세정하는 단계; 상기 세정된 기판을 가열 후 공기 중에서 냉각하는 단계; 상기 냉각된 기판에 X-선 입사각도에 따른 반사율(X-ray reflectivity; XRR)의 변화를 측정하여 제1 반사율곡선을 측정하는 단계; 및 상기 제1 반사율곡선과 상기 박막의 오염층을 고려하는 층구조 모델을 이용하여 상기 박막의 두께를 도출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 1 항에 있어서, 상기 세정된 기판은 상기 박막과 계면의 열적 변화를 방지하기 위해 100 내지 400 ℃에서 가열되는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 1 항에 있어서, 상기 박막의 두께를 도출하는 단계는 상기 제1 반사율곡선과 상기 층구조 모델을 시뮬레이션 하여 제2 반사율 곡선을 생성하는 단계; 및 상기 변환된 제2 반사율 곡선 및 상기 제1 반사율곡선을 이용하여 상기 박막의 두께를 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 3 항에 있어서, 상기 층구조 모델은 상기 박막과 실리콘 기판 사이에 형성된 중간층, 상기 박막층 및 상기 박막과 공기 사이에 형성된 표면 오염층을 포함하는 3층 구조 모델이며, 상기 표면 오염층은 탄화수소 또는 물분자(H2O)를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 1 항에 있어서, 상기 박막은 HfO2 게이트 절연막 및 SiO2 게이트 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기판을 세정하는 단계는 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol; IPA) 용액을 이용하여 세정을 수행하며, 상기 세정 후 상기 세정된 기판을 초음파로 세척하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
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제 3 항에 있어서, 상기 박막의 두께를 측정하는 단계는 상기 기판을 진공 또는 불활성 기체분위기 내에 위치시키고 상기 박막의 두께를 측정하는 것을 특징으로 하는 박막 두께 측정방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.