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처리 용기 내에 시료를 제공하는 단계;상기 시료를 공중 부양하는 단계; 및공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함하고,공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계는:수소 및 탄소를 포함하는 공정 가스를 플라즈마 처리하여 상기 처리 용기 내에 제공하는 단계; 및상기 시료를 가열하여 그래핀을 형성하는 단계를 포함하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법
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제1 항에 있어서,공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계는:수소 및 탄소를 포함하는 공정 가스를 플라즈마 처리하여 상기 처리 용기 내에 제공하는 단계; 및상기 시료를 가열하여 그래핀을 형성하는 단계 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법
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처리 용기 내에 시료를 제공하는 단계;상기 시료를 공중 부양하는 단계; 공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계; 및상기 시료의 모든 표면에 전이금속 또는 탄화금속을 포함하는 촉매층을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 그리핀을 성장시키는 단계는:수소 및 탄소를 포함하는 공정 가스를 상기 처리 용기에 제공하는 단계;상기 시료를 가열하여 탄소를 상기 촉매층에 흡착시키는 단계; 및상기 시료를 냉각하여 상기 촉매층 상에 그래핀층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법
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처리 용기 내에 시료를 제공하는 단계;상기 시료를 공중 부양하는 단계; 및공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함하고,공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계는:상기 시료의 모든 표면에 탄소를 포함하는 탄소층을 형성하는 단계; 및상기 탄소층을 열처리하여 그 표면에 그래핀을 형성하는 단계를 포함하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법
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처리 용기 내에 시료를 제공하는 단계;상기 시료를 공중 부양하는 단계; 및공중 부양된 시료의 모든 표면에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함하고,상기 시료를 공중 부양하는 단계는 정전기 공중 부양법(electrostatic levitation method), 에어로 다이나믹 공중 부양법(aerodynamic levitation method) 또는 플라즈마 공중 부양법(plasma levitation method)을 사용하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 방법
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처리 용기;상기 처리 용기 내에 배치되고 시료를 공중 부양하는 공중 부양부;상기 시료에 에너지를 인가하는 가열부; 및상기 처리 용기에 수소 및 탄소를 포함하는 공정 가스를 상기 처리 용기에 제공하는 가스 공급부를 포함하고,상기 시료는 모든 표면에 전이금속 또는 탄화금속을 포함하는 촉매층을 포함하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 장치
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제7 항에 있어서,상기 처리 용기에 활성종 및 플라즈마 중에서 적어도 하나를 공급하는 플라즈마 발생부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 장치
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처리 용기;상기 처리 용기 내에 배치되고 시료를 공중 부양하는 공중 부양부;상기 시료에 에너지를 인가하는 가열부; 및모든 표면에 탄소를 포함하는 탄소층을 포함하는 시료를 포함하고,상기 탄소층은 가열되어 표면에 그래핀층을 형성하고,상기 시료는 구형 또는 입체형태인 것을 특징으로 하는 그래핀 제조 장치
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