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진공 용기;상기 진공 용기 내부에 배치되는 전자를 발생시키는 전자 방출부;상기 진공 용기 내부에 배치되고 상기 전자 방출부에서 방출된 전자를 가속하는 가속부; 및가속된 전자가 충돌하여 투과하는 금속 박막을 포함하고,상기 금속 박막을 투과한 전자는 상기 진공 용기 외부에 플라즈마를 형성하는 것을 특징으로 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,금속 박막은 텅스텐 또는 타이타늄인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 금속 박막의 두께는 5 um 내지 100 um인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 전자 방출부는 필라멘트 또는 탄소나노튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 가속부는 서로 이격되어 배치되는 적어도 2개의 그리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,가속된 전자의 방향을 스캐닝하는 적어도 한 쌍의 전극판들을 포함하는 스캐닝부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 진공 용기의 압력을 0
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제1 항에 있어서,가속된 전자의 에너지는 100,000 eV 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1 항에 있어서,상기 가속부에 전력을 공급하는 가속 전원부; 및상기 전자 방출부에 전력을 공급하는 주 전원부 중에서 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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제1 항에 있어서,상기 가속부는 전자를 가속하고 상기 전자를 가속하는 에너지는 시간에 따라 변하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 진공 용기의 길이는 상기 진공 용기의 평균자유경로 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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일렬로 나란히 배열된 복수의 진공 용기들;상기 진공 용기들 각각의 내부에 배치된 전자 방출부들;상기 진공 용기들 각각의 내부에 배치되고 상기 전자 방출부에서 방출된 전자를 가속하는 가속부들; 및상기 진공 용기들에 배치되고 가속된 전자가 충돌하여 투과하는 금속 박막들을 포함하고,상기 금속 박막을 투과한 전자는 진공 용기들 외부에 플라즈마를 형성하는 것을 특징으로 플라즈마 발생 장치
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제 12항에 있어서,상기 전자 방출부들 각각에 전력을 공급하는 주 전원부들; 및상기 가속부들에게 공통으로 전력을 공급하는 가속 전원부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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진공 용기 내에서 전자를 방출하는 단계;방출된 전자를 가속하여 전자빔을 형성하는 단계;상기 전자빔을 금속 박막에 입사시키어 투과시키는 단계;상기 금속 박막을 투과한 전자빔이 플라즈마를 형성하는 단계; 및상기 플라즈마가 대상물을 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법
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제14 항에 있어서,상기 전자빔을 상기 진공 용기 내에서 방향을 바꾸는 단계; 및상기 전자빔의 에너지를 시간에 따라 변경하는 단계 중에서 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법
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제14 항에 있어서,상기 플라즈마는 대기중에서 발생하고,상기 대상물의 처리는 물 소독, 식물 세정, 공기 청정, 소독, 및 계면 처리 중에서 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법
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