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격자 패턴 조명(grating pattern illumination)의 주기에 대응하는 라인 점프 간격을 설정하고, 상기 라인 점프 간격 () 을 서브 스캔 개수()로 분할하는 서브 스캔 간격()을 설정하는 단계;레이저 광원은 광학계를 통하여 샘플 평면을 상기 라인 점프 간격 또는 상기 서브 스캔 간격으로 순차적으로 스캔하고, 샘플에서 발생한 신호광은 공초점 핀홀을 통과하여 감지되는 단계; 및상기 공초점 핀홀을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 라인 점프 간격 ()은 의 조건을 만족하고, 아베(Abbe) 회절 한계()는 이고, 는 상기 레이저 광원의 파장이고, 는 상기 광학계의 수치 구경(numerical aperture)인 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 서브 스캔 개수()는 인 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 공초점핀홀의 이동시키는 개수는 이고, 여기서, 최대 정방향 변위 인덱스()는 상기 서브 스캔 개수()보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 공초점 핀홀의 단위 이동 거리는 인 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 샘플 평면에서 스캔하는 회전 방위각 방향을 상기 샘플의 중심축을 기준으로 회전시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 레이저 광원이 상기 광학계를 통하여 샘플 평면을 상기 서브 스캔 간격으로 순차적으로 스캔하면서 얻어진 상기 감지된 신호광의 세기를 이용하여 상기 샘플의 스캔 영역에 대응하는 원시 스캔 이미지를 형성하는 단계;상기 원시 스캔 이미지로부터 서로 다른 격자 위상에 대응하는 원시 서브 스캔 이미지를 분리하는 단계;상기 원시 서브 스캔 이미지를 상기 공초점 핀홀 위치에 따라 이동시켜 서로 중첩하여 중간 이미지를 생성하는 단계; 및상기 중간 이미지를 역회전시키어 최종 이미지를 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제7 항에 있어서,상기 최종 이미지를 푸리에 변환하여 이미지 공간 주파수 스펙트럼을 생성하는 단계; 상기 이미지 공간 주파수 스펙트럼에 대하여 차수 역혼합(order unmixing)을 수행하여 차수가 다른 스펙트럼 성분을 분리하는 단계; 차수 별 스펙트럼 성분을 본래의 주파수 위치로 복귀시키어 확장된 물체 스펙트럼을 얻는 단계; 및 상기 확장된 물체 스펙트럼을 역 푸리에 변환하여 고분해능 이미지를 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 레이저 광원이 상기 광학계를 통하여 샘플 평면을 상기 라인 점프 간격으로 순차적으로 스캔하면서 얻어진 상기 감지된 신호광의 세기를 이용하여 상기 샘플의 스캔 영역에 대응하는 원시 스캔 이미지를 형성하는 단계;격자 위상에 대응하도록 스캔 평면에서 상기 라인 점프 간격 방향으로 오프셋을 인가하는 단계;동일한 상기 격자 위상에 대하여 상기 원시 스캔 이미지를 상기 공초점 핀홀 위치에 따라 이동시켜 서로 중첩하여 중간 이미지를 생성하는 단계; 및상기 중간 이미지를 역회전 시키어 최종 이미지를 생성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 스캔은 빠른 스캔 축으로 점 주사하고, 느린 스캔 축으로 선 주사하는 래스터 스캔 방식(raster scan method)인 것을 특징으로 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 광학계는 공초점 광학계이고, 상기 공초점 핀홀은 디스캔(descan) 광 경로 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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제1 항에 있어서,상기 광학계는 공초점 광학계이고, 상기 샘플 평면에서 초점은 이미지 면(image plane)에서 상기 공초점 핀홀의 위치로 전달되는 것을 특징으로 하는 레이저 스캔 구조조명 이미징 방법
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