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초고진공하에서 사용되는 금속팁의 클리닝 방법으로서, a) 금속팁을 포함하는 챔버내의 압력이 10-7 mbar 이하의 진공을 유지하는 단계;b) 상기 챔버내에 부분압력이 10-6 mbar 내지 10-8 mbar의 범위를 갖도록 질소가스를 도입하는 단계; 및c) 상기 질소가스가 도입된 챔버내의 금속팁에 6kV 내지 11kV 범위의 양의 전압을 걸어주는 단계;를 포함하는 금속팁의 클리닝 방법
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초고진공하에서 사용되는 금속팁의 클리닝 방법으로서,a) 금속팁을 포함하는 챔버내의 압력이 10-7 mbar 이하의 진공을 유지하는 단계;b) 상기 챔버내 금속팁에 6kV 내지 11kV 범위의 양의 전압을 걸어주는 단계; 및 c) 상기 양의 전압을 걸어준 금속팁을 포함하는 챔버내에 부분압력이 10-6 mbar 내지 10-8 mbar의 범위를 갖도록 질소 가스를 도입하는 단계;를 포함하는 금속팁의 클리닝 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속팁은 텅스텐, 백금, 금, 은, 니켈, 아연, 구리, 이리듐, 몰리브덴 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 합금인 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속팁의 직경은 500 um 이하로서 말단의 곡률 반경은 300 nm 이하인 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 질소 가스에 이미징 가스로서 헬륨, 네온, 아르곤, 수소 중 하나이상이 혼합되어 상기 클리닝 과정을 관찰할 수 있는 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 질소가스와 이미징 가스의 혼합비는 1:10 내지 1:1000 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속팁은 전자빔 소스, 이온빔 소스, 또는 주사탐침 현미경용 프루브의 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 b) 단계와 c) 단계는 동시에 실행되는 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 b) 단계 내지 c) 단계의 공정은 복수 회 반복되는 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 방법
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내부에 클리닝 공정이 수행될 금속팁과 연결되어 양의 전압이 인가될 전극을 포함하는 진공 챔버;상기 진공챔버의 외부에 구비되며, 상기 진공챔버에 부분압력이 10-6 mbar 내지 10-8 mbar의 범위를 갖도록 질소 가스를 공급할 질소가스 공급부; 및상기 진공챔버내 금속팁에 연결된 전극에 6kV 내지 11kV 범위의 양의 전압을 공급할 전압 공급장치;를 포함하여 이루어지는 금속팁의 클리닝 장치
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제 12 항에 있어서,상기 금속팁의 클리닝 장치는 헬륨, 네온, 아르곤, 수소 중 하나이상의 이미징 가스 공급부가 구비되며, 상기 이미징 가스 공급부로부터 이미징 가스가 상기 질소가스와 혼합되어 진공챔버로 공급되거나 또는 상기 질소가스와 이미징 가스가 각각 공급되어 진공챔버내에서 혼합됨으로써, 상기 클리닝 과정을 관찰할 수 있는 것을 특징으로 하는 금속팁의 클리닝 장치
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