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나노 구조체 형성 대상 물질을 0
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제 1 항에 있어서,상기 투명 도전막은 인듐-주석 산화물(ITO)을 포함하여 이루어지고, 상기 윈도우 커버는 글래스 커버를 포함하는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 투명 도전막은 산화주석계 도전막, 산화아연계 도전막 또는 산화인듐계 도전막을 포함하는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체는 상기 윈도우 커버에서 광의 반사를 줄이기 위한 복수의 나노 돌기 구조체를 포함하는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 나노 돌기 구조체는 80 nm 내지 800 nm 범위의 직경을 가지고, 2 내지 10 범위의 종횡비를 가지는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체는 금, 은, 니켈, 코발트, 구리, 철, 은-구리 합금, 구리-주석 합금, 또는 구리 산화물을 포함하여 이루어지는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 환원 전압을 인가하는 단계와 상기 산화 전압을 인가하는 단계는 교대로 수행되는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 환원 전압을 인가하는 단계와 상기 산화 전압을 인가하는 단계는 0
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제 1 항에 있어서,상기 초희석 전해 용액은 1 x 10-6 S cm-1 내지 105 x 10-6 S cm-1 범위의 전기 전도도를 가지는, 나노 구조체가 형성된 디스플레이용 윈도우 커버의 제조방법
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