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하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이의 이용방법

  • 기술번호 : KST2015179997
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스, 상기 하전입자 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 하전입자 빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 하전입자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군, 상기 하전입자 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 하전입자 소스로부터 방출된 하전입자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하는 진공챔버, 상기 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기, 및 관찰 또는 가공하려는 시료를 지지하며, 상기 시료를 이동할 수 있는 시료 스테이지를 포함하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치 및 이를 이용하여 시료를 관찰 또는 가공하는 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01J 37/147 (2006.01) H01J 37/317 (2006.01) H01J 37/21 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130148855 (2013.12.02)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1554594-0000 (2015.09.15)
공개번호/일자 10-2015-0064311 (2015.06.11) 문서열기
공고번호/일자 (20150922) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.02)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조복래 대한민국 대전시 유성구
2 배문섭 대한민국 대전 유성구
3 한철수 대한민국 경기도 수원시 팔달구
4 안상정 대한민국 대전 유성구
5 김주황 대한민국 대전 서구
6 박인용 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 공간 대한민국 대전광역시 서구 둔산서로 ***, *층(둔산 *동, 산업은행B/D)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-1103762-75
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2013-1153560-65
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.07.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2014-0065495-62
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0586162-98
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-1022547-77
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.10.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1022534-84
9 보정요구서
Request for Amendment
2014.12.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0232221-83
10 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.12.22 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2014-1241130-78
11 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2014.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-1241018-62
12 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation
2014.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0237555-88
13 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2015.01.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0000444-62
14 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document
2015.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0019721-55
15 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2015.01.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0006972-97
16 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2015-0026663-69
17 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0212845-82
18 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0391740-48
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2015-0391793-57
20 등록결정서
Decision to grant
2015.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0598476-89
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자 빔을 방출하는 전자 빔 소스; 상기 전자빔 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 전자빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈, 및 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 전자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 전자빔 소스 및 집속렌즈군을 내부에 구비하며, 상기 전자빔 소스로부터 방출된 전자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하며, 상기 어퍼처는 구멍의 형태의 개구부로서, 하기 제1영역과 제2영역이 상기 어퍼처를 통해 서로 개방되거나, 또는 상기 어퍼처는 두께가 0 초과 2mm 이하의 격막으로 형성되어 하기 제1 영역을 제2 영역으로부터 격리시키는 것을 특징으로 하는 진공챔버;상기 전자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기; 및 관찰하려는 시료를 지지하며, 상기 시료를 이동할 수 있는 시료 스테이지;를 포함하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치로서,상기 하전입자 빔 프로브 형성 장치는 진공챔버 내부의 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 상대적으로 높은 압력을 가지며 상기 시료를 포함하는 제2 영역으로 구분되고, 상기 편향기는 대물렌즈와 시료 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는, 주사전자현미경용 하전입자 빔 프로브 형성 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 어퍼처의 크기는 직경이 0 초과 3000 um 이하인 인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 하전입자 빔은 대물렌즈의 중심을 통과함으로써, 수차를 감소시키는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 제1 영역의 압력은 10-3 mbar 이하의 범위를 갖는 고진공 영역인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 제2 영역의 압력은 10-2 mbar 이상의 범위를 갖는 저진공 영역인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서, 상기 편향기는 시료와 어퍼처의 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
10 10
제1항에 있어서, 상기 편향기는 상기 어퍼처와 동일한 높이에 구비되는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
11 11
제1항에 있어서, 상기 제1 영역과 제2 영역의 압력차이는 100배 이상의 압력차이를 나타내는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 프로브 형성 장치
12 12
제1항, 제2항, 제4항 내지 제6항, 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 하전입자 빔 프로브 형성 장치를 포함하는 주사 전자 현미경
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
주사전자현미경에서 전자 빔을 이용하여 시료를 관찰하는 방법으로서, 전자 빔 소스; 및 상기 전자빔 소스쪽에 구비되며, 전기장 또는 자기장에 의해 상기 전자빔을 집속하여 주는 하나이상의 중간 집속렌즈와 최종 집속렌즈로서 시료쪽에 구비되며, 시료위에 집속되는 빔 스폿인 전자 빔 프로브를 형성시키는 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군;을 내부에 구비하며, 상기 전자빔 소스로부터 방출된 전자 빔이 대물렌즈를 거쳐 시료에 조사되는 통로인 어퍼처를 구비하며, 상기 어퍼처는 구멍의 형태의 개구부로서, 하기 제1영역과 제2영역이 상기 어퍼처를 통해 서로 개방되거나, 또는 상기 어퍼처는 두께가 0 초과 2mm 이하의 격막으로 형성되어 하기 제1 영역을 제2 영역으로부터 격리시키는 것을 특징으로 하는 진공챔버;의 내부영역인 제1 영역의 압력이 상기 시료를 포함하는 제2 영역의 압력보다 상대적으로 낮은 압력을 가지도록 각각의 영역의 압력을 설정하여 유지하는 단계, 상기 전자빔 소스로부터 전자 빔을 방출시키는 단계,상기 방출된 전자 빔을 집속렌즈군에 의해 집속시켜 어퍼처를 통과시키는 단계, 상기 대물렌즈와 시료 사이에 위치하며, 전자 빔의 조사 방향을 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기를 제어하여 전자 빔의 조사 방향을 바꾸는 단계, 및 조사 방향이 바뀐 전자 빔이 상기 시료 스테이지 상의 시료에 조사되는 단계를 포함하는, 주사전자현미경에서 전자 빔을 이용하여 시료를 관찰하는 방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국표준과학연구원 나노-소재기술개발사업 1nm 이하 분해능 헬륨이온현미경 원천기술 개발
2 미래창조과학부 한국표준과학연구원 한국표준과학연구원 주요사업 하전입자 현미경 요소기술 개발