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촉각센서의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015180119
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제조 공정을 단순화하고, 정확하게 접촉 정보를 검출할 수 있는 촉각센서의 제조방법에 관한 것으로서, 이러한 본 발명은, 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 금속층 상에 저항체를 형성하여 촉각센서의 상판을 제조하고, 소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 금속층 위에 저항체를 형성한 후 저항체를 제외한 금속층 위에 소정 두께의 스페이서를 형성하여 촉각센서의 하판을 제조한 후, 그 제조한 상판의 저항체와 하판의 저항체가 대향되도록 본딩하여 촉각센서를 제조함으로써, 촉각센서의 제조 공정을 단순화할 수 있게 된다.촉각센서, 제조방법, 신호처리
Int. CL G01L 1/18 (2006.01) G01L 1/16 (2006.01)
CPC G01L 1/18(2013.01) G01L 1/18(2013.01) G01L 1/18(2013.01) G01L 1/18(2013.01)
출원번호/일자 1020060083584 (2006.08.31)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0811861-0000 (2008.03.03)
공개번호/일자 10-2008-0020281 (2008.03.05) 문서열기
공고번호/일자 (20080310) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.08.31)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종호 대한민국 대전광역시 서구
2 권현준 대한민국 서울 영등포구
3 박연규 대한민국 대전광역시 유성구
4 김민석 대한민국 대전 서구
5 강대임 대한민국 대전광역시 유성구
6 최재혁 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 웰 대한민국 서울특별시 서초구 방배로**길*, *~*층(방배동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0631470-78
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.06.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.07.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0042139-19
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0465750-33
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0755344-32
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.10.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0755347-79
7 등록결정서
Decision to grant		 2008.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0077889-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
촉각센서의 제조 방법에 있어서,소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성하여 촉각센서의 상판을 제조하는 제1공정과;소정 두께의 고분자 필름상에 코팅층과 금속층을 순서대로 형성하고, 상기 금속층 상에 저항체를 형성한 후 상기 저항체를 제외한 금속층 상에 소정 두께의 스페이서를 형성하여 촉각센서의 하판을 제조하는 제2공정과;상기 제조한 상판의 저항체와 상기 하판의 저항체가 대향되도록 본딩하여 촉각센서를 제조하는 제3공정을 포함하는 제조되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1공정은,소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 소정 두께는 125㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
5 5
제2항에 있어서, 상기 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
6 6
제2항 또는 제5항에 있어서, 상기 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
7 7
제2항에 있어서, 상기 저항체는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
8 8
제2항에 있어서, 상기 저항체는 니크롬(Ni-Cr)을 이-빔(E-Beam) 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 제2공정은,소정 두께의 고분자 필름상에 고분자 재료인 HD 4000을 코팅하여 코팅층을 형성하는 공정과;상기 코팅층 상에 금속을 증착하여 금속층을 형성한 후 리프트-오프 공정을 이용하여 신호 선을 형성하는 공정과;상기 금속층 위에 저항체를 형성하는 공정과;상기 저항체를 제외한 상기 금속층 위에 스페이서를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 소정 두께는 50㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
11 11
제9항에 있어서, 상기 코팅층은 스핀코팅 장비를 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
12 12
제9항에 있어서, 상기 금속 층은 이-빔(E-beam) 또는 스퍼터(sputter) 장비를 이용하여 증착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
13 13
제9항 또는 제12항에 있어서, 상기 금속 층은 티타늄, 니켈, 금의 그룹에서 선택된 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
14 14
제9항에 있어서, 상기 저항체는 스크린 인쇄법을 이용하여 감압잉크를 도포한 후 저항체를 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
15 15
제9항에 있어서, 상기 저항체는 니크롬(Ni-Cr)을 이-빔(E-Beam) 또는 스퍼터 장비를 이용하여 증착한 후 에칭을 통해 저항체의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
16 16
제9항에 있어서, 상기 스페이서는 상기 저항체(레지스터)의 두께보다 2
17 17
제1항에 있어서, 상기 제3공정의 본딩 방법은 양면 테이프를 이용하거나 필름 접착용 열 접착 테이프를 이용하여 접착하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법
18 18
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19 19
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN101512311 CN 중국 FAMILY
2 EP02057448 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP04916549 JP 일본 FAMILY
4 JP22501849 JP 일본 FAMILY
5 KR100812318 KR 대한민국 FAMILY
6 US08049591 US 미국 FAMILY
7 US20100176825 US 미국 FAMILY
8 WO2008026818 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN101512311 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN101512311 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2010501849 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP4916549 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2010176825 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US8049591 US 미국 DOCDBFAMILY
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