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제 1 항에 있어서,
상기 제2광원부(20)는 테라헤르츠 주파수 빗살을 생성하기 위해 표준 주파수와 펨토초 레이저 펄스의 주파수를 합성하고 동기화하여 레이저 펄스 주파수를 안정화시킨 펨토초 레이저인 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광기
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제 1 항에 있어서,
상기 검출기(30)는 상기 테라헤르츠 주파수 빗살로부터 상기 연속발진 테라헤르츠파의 주파수(f)와 가장 인접한 주파수(nf1)를 검출하는 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광기
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6
제 1 항에 있어서,
상기 분석수단(40)은 다음 식으로부터,
f=nf1+ㅿf
여기서, f는 연속발진 테라헤르츠의 주파수를, n은 빗살에서 n번째 주파수를, f1은 테라헤르츠 주파수 빗살의 간격 주파수를 각각 나타낸다
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7
제 6 항에 있어서,
상기 분석수단(40)은 RF 스펙트럼 분석기인 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광기
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8
제 1 항, 제 4 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분광기는 상기 샘플(50)과 상기 제1광원부(10) 사이에 광의 도달 시간을 지연시켜 주는 지연라인(11)이 더 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광기
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연속발진 테라헤르츠파를 생성하여 샘플(50)에 조사하는 단계(S100);
테라헤르츠 주파수 빗살을 형성하기 위한 제2광을 검출기(30)에 조사하는 단계(S200);
상기 제2광을 조사받은 검출기(30)에서 테라헤르츠 주파수 빗살을 형성하는 단계(S300);
상기 테라헤르츠 주파수 빗살과 비교하여 연속발진 테라헤르츠파의 주파수와 가장 인접한 주파수(nf1)를 검출하는 단계(S400); 및
상기 인접 주파수로부터 주파수의 차이(ㅿf)를 분석하는 단계(S500);를 포함하는 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광 측정방법
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10
제 9 항에 있어서,
상기 조사단계(S100)는 상기 연속발진 테라헤르츠파가 샘플(50)에 도달하는 시간을 지연시키는 단계(S110)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광 측정방법
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11
제 10 항에 있어서,
상기 시간 지연단계(S110)는 샘플(50)을 투과한 THz 펄스를 순차적으로 검출하여 지연시간이나 시간 영역으로 표시할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 초정밀 및 고분해능의 테라헤르츠 분광 측정방법
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12
제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
상기 조사단계(S100)는 0
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제 9 항에 있어서,
상기 분석단계(S500)는 다음 식으로부터,
f=nf1+ㅿf
여기서, f는 연속발진 테라헤르츠의 주파수를, n은 빗살에서 n번째 주파수를, f1은 테라헤르츠 주파수 빗살의 간격 주파수를 각각 나타낸다
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