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물체(10)를 향한 광로를 따라 직사되는 빛을 제공하는 광원(110);상기 광원(110)으로부터 나온 빛을 평행 편광으로 변환하는 편광판(120);상기 편광판(120)으로부터 나온 상기 평행 편광을 반사하는 제1미러(130);상기 제1미러(130)에서 반사된 상기 평행 편광을 이용하여 원하는 복수의 주파수를 생성하는 주파수생성수단(140);상기 주파수생성수단(140)으로부터 나온 상기 복수의 주파수를 집중하는 주파수집중수단(150); 및상기 주파수집중수단(150)에 의해 집중된 상기 복수의 주파수를 합성하여 특정 주파수를 발생시켜 상기 물체(10)에 조사하는 마이크로 대물렌즈(160);를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1미러(130)는 상기 편광판(120)으로부터 나온 상기 평행 편광을 90도 반사하여 상기 주파수생성수단(140)에 입사시키는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 1 항에 있어서,상기 주파수생성수단(140)은,상기 제1미러(130)에서 나온 상기 평행 편광을 반사 및 투과하는 제1빔스플리터(141), 상기 제1빔스플리터(141)에서 반사된 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제1반파장판(144), 및 상기 제1반파장판(144)에서 입사된 상기 위상차가 변화된 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(150)에 입사시키는 제1빔모듈레이터(147)를 포함하는 제1주파수생성수단(171);상기 제1빔스플리터(141)에서 투과된 상기 평행 편광을 반사 및 투과하는 제2빔스플리터(142), 상기 제2빔스플리터(142)에서 반사된 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제2반파장판(145), 및 상기 제2반파장판(145)에서 입사된 상기 위상차가 변화된 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(150)에 입사시키는 제2빔모듈레이터(148)를 포함하는 제2주파수생성수단(172); 및상기 제2빔스플리터(142)에서 투과된 상기 평행 편광을 반사하는 제2미러(143), 상기 제2미러(143)에서 반사된 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제3반파장판(146), 및 상기 제3반파장판(146)에서 입사된 상기 위상차가 변화된 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(150)에 입사시키는 제3빔모듈레이터(149)를 포함하는 제3주파수생성수단(173);을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 3 항에 있어서,상기 주파수집중수단(150)은, 상기 제1빔모듈레이터(147)로부터 나온 주파수를 반사하여 상기 마이크로 대물렌즈(160)로 입사시키는 제3미러(151);상기 제2빔모듈레이터(148)로부터 나온 주파수를 반사하며, 상기 제3미러(151)로부터 나온 상기 주파수를 투과하여 상기 마이크로 대물렌즈(160)로 입사시키는 제3빔스플리터(152); 및상기 제3빔모듈레이터(149)로부터 나온 주파수를 반사하며, 상기 제3빔스플리터(152) 및 제3미러(151)로부터 나온 상기 주파수를 투과하여 상기 마이크로 대물렌즈(160)로 입사시키는 제4빔스플리터(153);를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 3 항에 있어서,상기 광원(110)은 펄스 레이져이며, 그리고상기 주파수생성수단(140)은,상기 제1빔스플리터(141)에서 나온 상기 평행 편광의 도달시간을 광학적으로 지연하여 상기 제1반파장판(144)에 입사시키는 제1광학딜레이(181);상기 제2빔스플리터(142)에서 나온 상기 평행 편광의 도달시간을 광학적으로 지연하여 상기 제2반파장판(145)에 입사시키는 제2광학딜레이(182); 및상기 제2미러(143)에서 나온 상기 평행 편광의 도달시간을 광학적으로 지연하여 상기 제3반파장판(146)에 입사시키는 제3광학딜레이(183);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 3 항에 있어서,상기 원하는 주파수는,신호를 관측하기 위해 세기를 강하게 하는 펌핑주파수와 상기 신호의 변화된 양을 관측하기 위한 프로브주파수인 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 1 항에 있어서,상기 물체(10)의 위치를 변화시키는 위치변환수단(190)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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물체(10)를 향한 광로를 따라 직사되는 빛을 제공하는 복수의 광원(210);상기 복수의 광원(210) 각각으로부터 나온 빛을 평행 편광으로 변환하는 복수의 편광판(221,222,223), 상기 복수의 편광판(221,222,223) 각각으로부터 나온 평행 편광의 위상차를 변화시키는 복수의 반파장판(224,225,226), 상기 복수의 반파장판(224,225,226) 각각으로부터 나온 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생시키는 복수의 빔모듈레이터(227,228,229)를 구비하는 주파수생성수단(220); 상기 주파수생성수단(220)으로부터 나온 복수의 주파수를 집중하는 주파수집중수단(230); 및상기 주파수집중수단(230)으로부터 입사된 상기 복수의 주파수를 합성하여 특정 주파수를 발생시켜 상기 물체(10)에 조사하는 마이크로 대물렌즈(240);를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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9
제 8 항에 있어서, 상기 광원(210), 편광판(221,222,223), 반파장판(224,225,226), 및 빔모듈레이터(227,228,229)는 상기 원하는 주파수를 생성하기 위한 주파수 개수 만큼 복수로 구비되는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 주파수생성수단(220)은,제1광원(211)에서 입사된 빛을 평행 편광으로 변환하는 제1편광판(221), 상기 제1편광판(221)으로부터 나온 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제1반파장판(224), 및 상기 제1반파장판(224)으로부터 나온 상기 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(230)에 입사시키는 제1빔모듈레이터(227)를 포함하는 제1주파수생성수단(251);제2광원(212)에서 입사된 빛을 평행 편광으로 변환하는 제2편광판(222), 상기 제2편광판(222)으로부터 나온 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제2반파장판(225), 및 상기 제2반파장판(225)으로부터 나온 상기 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(230)에 입사시키는 제2빔모듈레이터(228)를 포함하는 제2주파수생성수단(252);제3광원(213)에서 입사된 빛을 평행 편광으로 변환하는 제3편광판(223), 상기 제3편광판(223)으로부터 나온 상기 평행 편광의 위상차를 변화시키는 제3반파장판(226), 및 상기 제3반파장판(226)으로부터 나온 상기 평행 편광을 온 또는 오프하여 원하는 주파수를 발생하고, 상기 주파수를 상기 주파수집중수단(230)에 입사시키는 제3빔모듈레이터(229)를 포함하는 제3주파수생성수단(253);을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 10 항에 있어서,상기 주파수집중수단(230)은, 상기 제1빔모듈레이터(227)로부터 나온 주파수를 반사하여 상기 마이크로 대물렌즈(240)로 입사시키는 미러(231);상기 제2빔모듈레이터(228)로부터 나온 주파수를 반사하고, 상기 미러(231)로부터 나온 상기 주파수를 투과하여 상기 마이크로 대물렌즈(240)로 입사시키는 제1빔스플리터(232); 및상기 제3빔모듈레이터(229)로부터 나온 주파수를 반사하고, 상기 미러(231) 및 제1빔스플리터(232)로부터 나온 상기 주파수를 투과하여 상기 마이크로 대물렌즈(240)로 입사시키는 제2빔스플리터(233);를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 10 항에 있어서,상기 원하는 주파수는,신호를 관측하기 위해 세기를 강하게 하는 펌핑주파수와 상기 신호의 변화된 양을 관측하기 위한 프로브주파수인 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 1 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 광원(110, 210)은 빛을 증폭하여 출력하는 레이져인 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 8 항에 있어서,상기 물체(10)의 위치를 변화시키는 위치변환수단(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 장치
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제 1 항 또는 제 8 항의 광학 나노스코프 장치를 포함하며,상기 물체(10)가 레이져 파장을 반사하는 리플렉션 모드의 경우에는,상기 주파수집중수단(150,230)에서 반사된 상기 복수의 주파수를 이용하여 상기 물체(10)의 상을 측정하거나, 상기 편광의 변화를 측정하거나, 또는, 상기 물체(10)에서 나온 형광성분을 측정하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 측정 시스템
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제 7 항의 광학 나노스코프 장치를 포함하며,상기 물체(10)가 레이져 파장을 투과하는 트랜스미션 모드의 경우에는,상기 위치변환수단(190)으로부터 나온 주파수를 이용하여 상기 물체(10)의 상을 측정하거나, 상기 편광의 변화를 측정하거나, 또는, 상기 물체(10)에서 나온 형광성분을 측정하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 측정 시스템
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제 14 항의 광학 나노스코프 장치를 포함하며,상기 물체(10)가 레이져 파장을 투과하는 트랜스미션 모드의 경우에는,상기 위치변환수단(260)으로부터 나온 주파수를 이용하여 상기 물체(10)의 상을 측정하거나, 상기 편광의 변화를 측정하거나, 또는, 상기 물체(10)에서 나온 형광성분을 측정하는 것을 특징으로 하는 광학 나노스코프 측정 시스템
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