1 |
1
제1 방향과 제2 방향에 의하여 정의되는 제1 평면에서 상기 제1 방향을 따라 연속적으로 배열된 광원; 상기 제1 방향을 따라 연장되고 상기 제2 방향을 중심축으로 하여 회전하여 기울어져 배치되고 상기 광원으로부터 상기 제1 평면에 수직한 제3 방향으로 이격되어 배치된 빔 분할기(beam splitter);상기 제1 방향으로 연장되어 배치되고 상기 빔 분할기의 하부면에서 반사한 기준 빔과 상기 빔 분할기를 투과하여 샘플에 반사되어 다시 상기 빔 분할기를 투과한 물체 빔 사이의 간섭 신호를 상기 제1 방향을 따라 감지하는 광 센서 어레이; 및상기 광 센서 어레이의 공간 간섭 신호를 처리하여 상기 빔 분할기의 하부면과 상기 샘플의 상부면 사이의 거리를 상기 제1 방향에 따라 산출하는 처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
2 |
2
제1 항에 있어서,상기 빔 분할기는 연장되는 방향으로 일정한 두께를 가지고, 상기 연장되는 방향을 가로지르는 방향으로 두께가 선형적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
3 |
3
제1 항에 있어서,상기 광원을 바라보는 상기 빔 분할기의 상부면은 무반사(anti-reflection) 코팅되고, 상기 샘플을 바라보는 상기 빔 분할기의 하부면은 반투명(half transparent) 코팅되는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
4 |
4
제1 항에 있어서,상기 광원 및 상기 광 센서 어레이의 하부에 배치되고, 상기 빔 분할기의 기울어진 각도를 조절하는 각도 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
5 |
5
제1 항에 있어서,상기 광원은 상기 제1 방향으로 연장되어 배치되는 광원 어레이를 포함하고, 상기 광원 어레이는 상기 광 센서 어레이와 정렬되는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
6 |
6
제1 항에 있어서,상기 광원은 파장 가변 레이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
7 |
7
제1 항에 있어서,상기 광원은:서로 다른 파장을 가지는 복수의 레이저 다이오드들; 및상기 레이저 다이오드를 입력 신호로 제공받아 출력하는 다중화기를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
8 |
8
제1 항에 있어서,상기 광원의 하부에 배치되고, 상기 광센서 어레이와 이격되어 나란히 연장되고, 상기 광원의 출력광을 집속하여 상기 빔 분할기에 제공하고, 상기 제1 방향으로 연장되는 원기둥 형상의 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
9 |
9
제1 항에 있어서,상기 빔 분할기와 상기 광센서 어레이 사이에 배치되고, 상기 광원과 이격되어 나란히 배열되고, 상기 광센서 어레이에 입사하는 광을 집속하여 상기 광센서 어레이에 제공하고, 상기 제3 방향으로 연장되는 기둥 형상의 렌즈 어레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 장치
|
10 |
10
광원과 광 센서 어레이 사이에 기울어진 빔 분할기를 배치하고 상기 빔 분할기 하부에 샘플을 배치하는 단계;상기 광 센서 어레이의 공간 간섭 신호를 동시에 획득하는 단계;상기 공간 간섭 신호를 푸리어 변환하는 단계;푸리어 변환된 공간 간섭 신호를 필터링하여 위상 성분이 포함된 고주파 부분을 추출하는 단계;상기 고주파 부분의 중심 주파수를 이동시키는 단계;중심 주파수가 이동된 성분을 역푸리어 변환하는 단계;역푸리어 변환된 신호에 상기 위상 성분을 추출하는 단계; 및상기 위상 성분으로부터 빔 분할기와 상기 샘플 상부 사이의 형상 정보를 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 형상 측정 방법
|