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진공 용기에 부착된 플랜지와 결합하는 유전체 창문; 및
상기 유전체 창문의 주위 또는 상기 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 유전체 창문에 제공하는 노즐부를 포함하고,
상기 노즐부는 노즐 입구 및 노즐 출구를 포함하고, 상기 노즐부는 상기 노즐 입구에서 상기 노즐 출구로 진행함에 따라 방향이 점진적으로 변화하여 상기 오염 방지 가스에 회오리를 제공하는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 플랜지는 서로 마주보는 제1 플랜지 및 제2 플랜지를 포함하고,
상기 유전체 창문은 상기 제1 플랜지와 결합하는 제1 유전체 창문, 및 상기 제2 플랜지와 결합하는 제2 유전체 창문을 포함하고,
상기 노즐부는 제1 노즐부 및 제2 노즐부를 포함하고,
상기 제1 노즐부는 상기 제1 유전체 창문의 주위 또는 상기 제1 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 제1 유전체 창문에 제공하고,
상기 제2 노즐부는 상기 제2 유전체 창문의 주위 또는 상기 제2 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 제2 유전체 창문에 제공하는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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3
제 1 항에 있어서,
상기 진공 용기는 공정 용기 또는 배기 라인인 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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삭제
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5
제 1 항에 있어서,
상기 노즐부는 상기 노즐 입구에서 상기 노즐 출구로 진행함에 따라 점진적으로 단면적이 감소하여 상기 오염 방지 가스를 가속하는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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6
제1 항에 있어서,
상기 노즐부는:
중심에 제1 관통홀을 가지고 일면에 나선형의 그루브들을 포함하는 제1 지지판;
상기 제1 지지판 상에 배치된 상기 유전체 창문의 주위 및 외측 상부에 배치되는 제2 지지판; 및
상기 그루브들의 일단에 상기 제2 지지판을 관통하여 연결되는 가스 라인을 포함하고,
상기 그루브들의 타단은 상기 관통홀에 연결되는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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7
제1 항에 있어서,
상기 노즐부는:
중심에 제1 관통홀을 가지고 일면에 나선형의 그루브들을 포함하는 제1 지지판;
상기 제1 지지판 상에 배치된 상기 유전체 창문의 주위 및 외측 상부에 배치되는 제2 지지판; 및
상기 그루브들의 일단에 상기 제1 지지판의 측면을 관통하여 연결되는 가스 라인을 포함하고,
상기 그루브들의 타단은 상기 제1 관통홀에 연결되는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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8
제1 항에 있어서,
상기 노즐부는:
중심에 제1 관통홀을 가지고 일면에 나선형의 노즐 통로들을 포함하는 제1 지지판;
상기 제1 지지판 상에 배치된 상기 유전체 창문의 주위 및 외측 상부에 배치되는 제2 지지판; 및
상기 노즐 통로들의 일단에 상기 제1 지지판의 측면을 관통하여 연결되는 가스 라인을 포함하고,
상기 노즐 통로들의 타단은 상기 제1 관통홀에 연결되는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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9
제1 항에 있어서,
상기 노즐부는:
중심에 관통홀을 가지고 일면에 나선형의 그루브들을 포함하는 상기 진공 용기에 부착된 출력 플랜지;
상기 출력 플랜지 상에 배치된 상기 유전체 창문의 주위 및 외측 상부에 배치되는 덮개 판; 및
상기 그루브들의 일단에 상기 출력 플랜지의 측면을 관통하여 연결되는 가스 라인을 포함하고,
상기 그루브들의 타단은 상기 관통홀에 연결되는 것을 특징으로 하는 유전체 창문 오염 방지 장치
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플라즈마 발생부;
배기 라인에 연결되고 공정 용기의 가스를 유입되어 상기 플라즈마 발생부에 의하여 플라즈마가 형성되는 진공 용기;
상기 진공 용기에 장착되고 상기 플라즈마에 의한 발생한 플라즈마 방출 광을 투과시키는 유전체 창문;
상기 유전체 창문의 주위에 배치되거나 상기 진공 용기에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 유전체 창문에 제공하는 노즐부;
상기 진공 용기의 외부에 배치되고 상기 플라즈마 방출 광을 입력받아 분광하여 감지하는 분광부; 및
상기 분광부의 출력 신호를 처리하여 상기 공정 용기의 이상을 모니터링하는 처리부를 포함하고,
상기 노즐부는 노즐 입구 및 노즐 출구를 포함하고, 상기 노즐부는 상기 노즐 입구에서 상기 노즐 출구로 진행함에 따라 방향이 점진적으로 변화하여 상기 오염 방지 가스에 회오리를 제공하는 것을 특징으로 하는 자체 플라즈마 광 방출 스펙트럼 장치
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배기 라인에 연결된 보조 라인에 결합하는 입력 플랜지를 포함하고, 상기 입력 플랜지를 통하여 공정 용기의 가스를 유입되고, 출력 플랜지를 포함하는 진공 용기;
상기 진공 용기에 플라즈마를 형성하는 플라즈마 발생부;
상기 출력 플랜지와 결합하고 상기 플라즈마에 의한 발생한 플라즈마 방출 광을 투과시키는 유전체 창문; 및
상기 유전체 창문의 주위 또는 상기 출력 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 유전체 창문에 제공하는 노즐부를 포함하고,
상기 노즐부는 노즐 입구 및 노즐 출구를 포함하고, 상기 노즐부는 상기 노즐 입구에서 상기 노즐 출구로 진행함에 따라 방향이 점진적으로 변화하여 상기 오염 방지 가스에 회오리를 제공하는 것을 특징으로 하는 자체 플라즈마 광 방출 스펙트럼 장치
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서로 마주보는 제1, 및 제2 플랜지를 포함하는 진공 용기;
상기 제1 플랜지와 결합하는 제1 유전체 창문;
상기 제2 플랜지와 결합하는 제2 유전체 창문;
상기 제1 유전체 창문의 주위 또는 상기 제1 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 제1 유전체 창문에 제공하는 제1 노즐부;
상기 제2 유전체 창문의 주위 또는 상기 제2 플랜지에 배치되어 오염 방지 가스를 상기 제2 유전체 창문에 제공하는 제2 노즐부; 및
상기 제1 유전체 창문으로 제공되어 상기 진공 용기 내의 입자들에게 레이저광을 제공하는 레이저부를 포함하고,
상기 제1 및 제2 노즐부는 노즐 입구 및 노즐 출구를 포함하고, 상기 제1 및 제2 노즐부는 상기 노즐 입구에서 상기 노즐 출구로 진행함에 따라 방향이 점진적으로 변화하여 상기 오염 방지 가스에 회오리를 제공하는 것을 특징으로 하는 입자 측정 장치
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