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탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이 및그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015180289
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이(Field Emmision Display : FED) 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 전계 방출 디스플레이의 에미터 역할을 하는 탄소나노튜브의 지향 방향 및 형상을 이온빔, 특히 집속된 이온빔을 이용하여 조절함으로써 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 효율을 극대화하여 저전압으로도 높은 휘도를 낼 수 있으며, 또한 탄소나노튜브 에미터에 의한 전자 방출을 균일화하여 균일한 휘도를 낼 수 있는 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이는 하부 기판과, 상기 하부 기판 위에 형성되는 캐소드 전극과, 상기 캐소드 전극에 제공되는 탄소나노튜브 에미터와, 상기 탄소나노튜브 에미터를 둘러싸도록 형성되는 게이트 절연층과, 상기 게이트 절연층 위로 형성되는 게이트 전극과, 상기 게이트 전극과 스페이서에 의해 일정한 간극을 두고 상기 게이트 전극을 상부에서 덮는 전면판과, 상기 게이트 전극을 마주보도록 상기 전면판 아래로 형성되는 애노드 전극과, 상기 애노드 전극에 형성되어 상기 탄소나노튜브 에미터에서 방출되는 전자에 의해 발광되는 형광체층을 포함하며, 상기 탄소나노튜브 에미터는 이온빔의 조사에 의해 상기 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 방향으로 정렬되어 펴진 것을 특징으로 한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01J 9/02 (2011.01) C01B 31/02 (2011.01) H01J 1/304 (2011.01)
CPC H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01)
출원번호/일자 1020050044794 (2005.05.27)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0679613-0000 (2007.01.31)
공개번호/일자 10-2006-0122377 (2006.11.30) 문서열기
공고번호/일자 (20070206) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.05.27)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박병천 대한민국 대전 유성구
2 정기영 대한민국 서울 구로구
3 송원영 대한민국 서울 구로구
4 홍재완 대한민국 서울 구로구
5 안상정 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최기현 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 **, *층 대륙국제특허법률사무소 (구로동, 코오롱디지털타워빌란트Ⅱ)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0279949-32
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.02.15 수리 (Accepted) 4-1-2006-5019752-35
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0508131-00
4 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2006-0787735-30
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.11.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0888787-95
6 의견서
Written Opinion
2006.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2006-0888762-54
7 등록결정서
Decision to grant
2007.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0036955-45
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
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번호 청구항
1 1
탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이(carbon nanotube emitter field emission display)를 제조하는 방법으로서,하부 기판을 제공하는 단계와,상기 하부 기판 위에 캐소드 전극을 형성하는 단계와,상기 캐소드 전극에 상기 전계 방출 디스플레이의 에미터의 역할을 하는 탄소나노튜브를 제공하는 단계와상기 탄소나노튜브 에미터를 둘러싸도록 게이트 절연층을 형성하는 단계와,상기 게이트 절연층 위로 게이트 전극을 형성하는 단계와,상기 게이트 전극과 스페이서(spacer)에 의해 일정한 간극을 두고 상기 게이트 전극을 상부에서 덮는 전면판을 제공하는 단계와,상기 게이트 전극을 마주보도록 상기 전면판 아래로 애노드 전극을 형성하는 단계와,상기 탄소나노튜브 에미터에서 방출되는 전자에 의해 발광되는 형광체층을 상기 애노드 전극에 형성하는 단계를 포함하는 탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법에 있어서,상기 탄소나노튜브를 제공하는 단계는 상기 전계 방출 디스플레이의 에미터의 역할을 하는 상기 탄소나노튜브에 이온빔을 조사하여 상기 탄소나노튜브를 상기 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 방향으로 정렬하여 펴는(straightening) 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 이온빔은 집속된 이온빔(focused ion beam)인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법
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제 2항에 있어서,상기 집속된 이온빔은 Ga 이온빔, Au 이온빔, Ar 이온빔, Li 이온빔, Be 이온빔, He 이온빔, Au-Si-Bi 이온빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법
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제 3항에 있어서,상기 집속된 이온빔의 가속전압은 5kV 내지 30kV, 전류량은 1pA 내지 1nA이며, 상기 탄소나노튜브가 상기 집속된 이온빔에 노출되는 시간은 1초 내지 1분인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브(single-walled carbon nanotube), 이중벽 탄소나노튜브(double-walled carbon nanotube) 및 다중벽 탄소나노튜브(multi-walled carbon nanotube) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이의 제조 방법
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하부 기판과, 상기 하부 기판 위에 형성되는 캐소드 전극과, 상기 캐소드 전극에 제공되는 탄소나노튜브 에미터와, 상기 탄소나노튜브 에미터를 둘러싸도록 형성되는 게이트 절연층과, 상기 게이트 절연층 위로 형성되는 게이트 전극과, 상기 게이트 전극과 스페이서에 의해 일정한 간극을 두고 상기 게이트 전극을 상부에서 덮는 전면판과, 상기 게이트 전극을 마주보도록 상기 전면판 아래로 형성되는 애노드 전극과, 상기 애노드 전극에 형성되어 상기 탄소나노튜브 에미터에서 방출되는 전자에 의해 발광되는 형광체층을 포함하는, 탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이로서,상기 탄소나노튜브 에미터는 이온빔의 조사에 의해 상기 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 방향으로 정렬되어 펴진(straightening) 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이
7 7
제 6항에 있어서,상기 이온빔은 집속된 이온빔인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이
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제 7항에 있어서,상기 집속된 이온빔은 Ga 이온빔, Au 이온빔, Ar 이온빔, Li 이온빔, Be 이온빔, He 이온빔, Au-Si-Bi 이온빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이
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제 8항에 있어서,상기 집속된 이온빔의 가속전압은 5kV 내지 30kV, 전류량은 1pA 내지 1nA이며, 상기 탄소나노튜브가 상기 집속된 이온빔에 노출되는 시간은 1초 내지 1분인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이
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제 6항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브(single-walled carbon nanotube), 이중벽 탄소나노튜브(double-walled carbon nanotube) 및 다중벽 탄소나노튜브(multi-walled carbon nanotube) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는,탄소나노튜브 에미터 전계 방출 디스플레이
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.