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1
일측면에 외력(Fin)이 인가되는 보호층(110); 상기 보호층(110)의 타측면에 구비되고, 접촉신호를 발생하는 제1전극층(131);을 포함하는 제1투명전극층(130); 및상기 제1투명전극층(130)의 일측면에 구비되는 제1베이스층(140);을 포함하는 상판부(100); 유리를 포함하여 이루어진 지지층(210); 상기 지지층(210)의 일측면에 구비된 제2베이스층(240); 및 상기 제1베이스층(140)과 대향하도록 상기 제2베이스층(240)의 일측면에 구비되고, 접촉신호를 발생하는 제2전극층(231);을 포함하는 제2투명전극층(230);을 포함하는 하판부(200); 및 상기 외력(Fin)이 인가되면 상기 제1투명전극층(130)과 상기 제2투명전극층(230) 사이의 간격이 변하도록 상기 상판부(100)와 상기 하판부(200)사이에 형성된 완충층(300);을 포함하여 상기 외력(Fin)에 따른 정전용량 변화를 감지하여 상기 외력(Fin)의 접촉위치와 누름힘의 세기를 측정하도록 구성되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 1항에 있어서,상기 보호층(110), 상기 제1,2베이스층(140,240) 및 상기 지지층(210) 중 적어도 하나는 투명한 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 1항에 있어서,상기 보호층(110)은 두께가 70㎛ 내지 250㎛의 범위에서 결정되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 1항에 있어서,상기 지지층(210)은 두께가 50㎛ 내지 1mm의 범위에서 결정되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 1항에 있어서,빛 투과율이 동일하도록 더미투명전극층(150);을 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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6
제 5항에 있어서,상기 더미투명전극층(150)은 상기 보호층(110) 및 상기 제1투명전극층(130) 사이에 구비되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 1항에 있어서,상기 제1투명전극층(130)은 빛 투과율이 동일하도록 상기 제1전극층(131)과 소정간격 이격된 제1더미전극층(132);을 더 포함하고, 상기 제2투명전극층(230)은 빛 투과율이 동일하도록 상기 제2전극층(231)과 소정간격 이격된 제2더미전극층(232);을 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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8
제 1항에 있어서,상기 완충층(300)은 상기 상판부(100)와 상기 하판부(200) 사이에 에어갭(350)이 형성되도록 구비된 결합층(310);을 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제 8항에 있어서, 상기 결합층(310)은 격자무늬 또는 사각무늬로 형성되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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10
제 8항에 있어서,상기 완충층(300)은 상기 에어갭(350)에 충진되는 충진재(320);를 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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11
제 8항에 있어서,상기 완충층(300)은 상기 에어갭(350)에 구비되는 스페이서(330);를 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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12
제 11항에 있어서, 상기 스페이서(330)는 복수개가 상호 특정간격(d) 이격되어 균일하게 구비되고, 상기 특정간격(d)은 0
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13
제 11항에 있어서,상기 스페이서(330)는 특정직경(r1) 및 특정높이(h1)를 갖는 돔 형상이 복수개 구비되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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14
제 13항에 있어서,상기 특정직경(r1)은 50㎛ 내지 250㎛ 범위에서 결정되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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15
제 13항에 있어서,상기 특정높이(h1)는 10㎛ 내지 30㎛ 범위에서 결정되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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16
제 11항에 있어서,상기 스페이서(330)는 일면에 요철이 형성된 판 형상인 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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17
제 16항에 있어서,상기 요철은 특정직경(r2) 및 특정높이(h2)를 갖는 돔 형상의 돌기가 복수개 구비되어 형성된 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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18
제 11항에 있어서,상기 스페이서(330)는 투명한 고분자 소재로 이루어진 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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19
제 1항에 있어서,상기 제1,2투명전극층(130, 230)은 인듐주석 산화물(ITO), 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀 중 적어도 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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20
제 1항에 있어서,상기 제1,2베이스층(140, 240) 및 상기 보호층(110)은 유리 또는 고분자 필름을 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조
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제1투명전극층(130)과 보호층(110)이 대향하도록 제1베이스층(140)의 일측면과 상기 보호층(110)의 일측면을 접착하는 상판부형성단계;일측면에 제2투명전극층(230)이 형성된 제2베이스층(240)의 타측면에 유리를 포함하여 이루어진 지지층(210)을 접착하는 하판부형성단계; 및 상기 상판부(100) 및 상기 하판부(200) 사이에 에어갭(350)이 형성되고 상기 제1베이스층(140)의 타측면과 상기 제2투명전극층(230)이 대향하도록 상기 상판부(100) 및 상기 하판부(200)를 접착하는 완충층 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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일측면에 제2투명전극층(230)이 형성된 제2베이스층(240)의 타측면에 유리를 포함하여 이루어진 지지층(210)을 접착하는 하판부형성단계;제1투명전극층(130)과 보호층(110)이 대향하도록 제1베이스층(140)의 일측면과 상기 보호층(110)의 일측면을 접착하는 상판부형성단계; 및상기 상판부(100) 및 상기 하판부(200) 사이에 에어갭(350)이 형성되고 상기 제1베이스층(140)의 타측면과 상기 제2투명전극층(230)이 대향하도록 상기 상판부(100) 및 상기 하판부(200)를 접착하는 완충층 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 21항 또는 제 22항에 있어서,상기 상판부형성단계는 상기 보호층(110)의 일측면에 더미투명전극층(150)이 증착되어 있고, 상기 더미투명전극층(150)과 상기 제1투명전극층(130)이 대향하도록 상기 제1베이스층(140)과 상기 보호층(110)을 접착하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조 제조방법
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제 21항 또는 제 22항에 있어서,상기 상판부형성단계는 상기 제1투명전극층(130)을 포함한 상기 제1베이스층(140)의 일측면 또는 상기 보호층(110)의 일측면에 제1접착층(120)을 형성하여 상기 보호층(110)과 상기 제1베이스층(140)을 접착하고,상기 하판부형성단계는 상기 지지층(210)의 일측면 또는 상기 제2베이스층(240)의 상기 타측면에 제2접착층(220)을 형성하여 상기 지지층(210)과 상기 제2베이스층(240)을 접착하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 24항에 있어서,상기 제1접착층(120) 및 상기 제2접착층(220) 중 적어도 하나는 광학투명양면접착제(OCA)를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 21항 또는 제 22항에 있어서,상기 완충층 형성단계는 상기 제2투명전극층(230)을 포함한 상기 제2베이스층(240)의 일측면 또는 상기 제1베이스층(140)의 타측면에 결합층(310)을 형성하여 상기 제1베이스층(140)과 상기 제2베이스층(240)을 접착하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 26항에 있어서,상기 결합층(310)은 광학투명양면접착제(OCA)를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 21항 또는 제 21항에 있어서,상기 상판부형성단계는 상기 제1베이스층(140)의 타측면에 스페이서(330)를 형성하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 28항에 있어서,상기 스페이서(330) 형성과정은 상기 제1베이스층(140)의 타측면에 돔 형상의 스페이서(330)를 복수개 형성하고,상기 스페이서(330)의 직경(r1)은 50㎛ 내지 250㎛ 사이의 값을 갖고 높이(h1)는 10㎛ 내지 30㎛ 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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제 28항에 있어서,상기 스페이서(330) 형성과정은 상기 제1베이스층(140)의 타측면에 복수개의 스페이서(330)를 상호 특정간격(d) 이격되게 형성하고,상기 특정간격(d)은 0
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제 21항 또는 제 22항에 있어서,상기 완충층 형성단계는 상기 에어갭(350)에 충진재(320)를 충진하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 한 접촉위치와 누름힘 측정용 터치입력구조의 제조방법
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